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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第132位 313件
(2020年:第138位 311件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第117位 241件
(2020年:第136位 210件)
(ランキング更新日:2025年6月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6974169 | 複数の加熱ゾーンを有する基板支持体 | 2021年12月 1日 | |
特許 6968993 | 金属膜の選択的堆積のための方法及び前駆体 | 2021年11月24日 | |
特許 6971229 | 底部処理 | 2021年11月24日 | |
特許 6971267 | 高温で処理チャンバ内のホウ素―炭素残留物を除去するための洗浄プロセス | 2021年11月24日 | |
特許 6971726 | 半導体アプリケーション用希土類酸化物系耐食性コーティング | 2021年11月24日 | |
特許 6966457 | 液晶ディスプレイ用大容量コンデンサのための界面技術 | 2021年11月17日 | |
特許 6966552 | スパッタ堆積源、スパッタ堆積装置、及び基板上に層を堆積させる方法 | 2021年11月17日 | |
特許 6967067 | 個別に制御可能なヒータ素子のアレイを有する基板キャリア | 2021年11月17日 | |
特許 6967068 | ヒータ素子アレイを使用する、基板キャリアの温度測定 | 2021年11月17日 | |
特許 6967656 | 2つの埋込電極を有する基板支持体 | 2021年11月17日 | |
特許 6968120 | 薄い基板をハンドリングするための静電キャリア | 2021年11月17日 | |
特許 6968131 | ファクトリインターフェースの環境制御を伴う基板処理のシステム、装置、及び方法 | 2021年11月17日 | |
特許 6968701 | 低誘電率かつ低湿式エッチング速度の誘電体薄膜を堆積させるための方法 | 2021年11月17日 | |
特許 6964979 | 蒸着で堆積されたフォトレジスト、及びそのための製造及びリソグラフィシステム | 2021年11月10日 | |
特許 6965255 | チャッキング解除工程中に静電チャック上の残留電荷を除去する方法 | 2021年11月10日 |
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6974169 6968993 6971229 6971267 6971726 6966457 6966552 6967067 6967068 6967656 6968120 6968131 6968701 6964979 6965255
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