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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第132位 313件
(
2020年:第138位 311件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第117位 241件
(
2020年:第136位 210件)
(ランキング更新日:2025年10月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6821607 | 側壁ポアの封止とビアの清浄性のための配線集積化 | 2021年 1月27日 | |
| 特許 6822953 | 基板キャリア及びパージチャンバの環境制御を伴う基板処理のシステム、装置、及び方法 | 2021年 1月27日 | |
| 特許 6814879 | 基板をアライメントする装置、システム及び方法 | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6815302 | 対称プラズマ処理チャンバ | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6815390 | 堆積装置を操作する方法、蒸発した源材料を基板に堆積する方法、及び堆積装置 | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6816004 | プラズマ処理システム用の高温チャック | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6816171 | 露光後ベークのための装置 | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6818678 | 改善された金属イオン濾過方法および装置 | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6818782 | 半導体処理用のガス分配シャワーヘッド | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6811709 | 半導体プロセシング装置放出物の処理のためのコントローラ | 2021年 1月13日 | |
| 特許 6811732 | 処理チャンバ中のガス制御 | 2021年 1月13日 | |
| 特許 6814213 | プラズマ処理のためのアーキング検出装置 | 2021年 1月13日 | |
| 特許 6806704 | 方位角方向に調整可能なマルチゾーン静電チャック | 2021年 1月 6日 | |
| 特許 6807656 | 膜スタック形成のためのデュアルチャネルシャワーヘッド | 2021年 1月 6日 | |
| 特許 6807860 | 3Dコンフォーマル処理用原子層処理チャンバ | 2021年 1月 6日 |
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6821607 6822953 6814879 6815302 6815390 6816004 6816171 6818678 6818782 6811709 6811732 6814213 6806704 6807656 6807860
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11月14日(金) -
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11月14日(金) -
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11月10日(月) - 東京 品川区
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