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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第132位 313件
(2020年:第138位 311件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第117位 241件
(2020年:第136位 210件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6882515 | 遠隔プラズマモニタリングのための発光分光法(OES) | 2021年 6月 2日 | |
特許 6882536 | ポリマー構造失活プロセスを用いた選択的堆積プロセス | 2021年 6月 2日 | |
特許 6875417 | 真空チャック圧力制御システム | 2021年 5月26日 | |
特許 6875452 | 低K及びその他の誘電体膜をエッチングするための処理チャンバ | 2021年 5月26日 | |
特許 6875536 | プラズマ均一性を径方向制御及び方位角制御するためのシステム | 2021年 5月26日 | |
特許 6876831 | ディスプレイ技術のためのナノ構造の平坦レンズを含むディスプレイ装置 | 2021年 5月26日 | |
特許 6877333 | プラズマ処理システム用のコンパクトな構成可能なモジュール式高周波整合ネットワークアセンブリ及び同アセンブリの構成方法 | 2021年 5月26日 | |
特許 6877353 | 電力供給導波管内のアイリスによるマイクロ波回転とインピーダンスシフトのための汎用円筒形状キャビティシステム | 2021年 5月26日 | |
特許 6878413 | リアルタイムの力および膜応力制御を備えた基板支持体 | 2021年 5月26日 | |
特許 6878504 | セラミックコーティングを有する熱処理されたセラミック基板及びコートされたセラミックスへの熱処理 | 2021年 5月26日 | |
特許 6873696 | 強化されたプロセスの均一性および低減された基板の滑りのためのサセプタ | 2021年 5月19日 | |
特許 6868553 | プラズマ化学気相堆積システムにおいて高温で圧縮又は引張応力を有するウェハを処理する方法及び装置 | 2021年 5月12日 | |
特許 6868616 | 背面でのプラズマ点火が低減されたシャワーヘッド | 2021年 5月12日 | |
特許 6869253 | マスクパターン、マスク、およびマスクの製造方法 | 2021年 5月12日 | |
特許 6869978 | バイアス可能な回転可能静電チャック | 2021年 5月12日 |
242 件中 151-165 件を表示
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6882515 6882536 6875417 6875452 6875536 6876831 6877333 6877353 6878413 6878504 6873696 6868553 6868616 6869253 6869978
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