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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6870090	半導体基板処理システムのための先進インシトゥ粒子検出システム	2021年 5月12日
特許 6870113	ゲッターを備えたアニールチャンバ	2021年 5月12日
特許 6865231	堆積後のガス管内部の残留前駆体を除去する装置および方法	2021年 4月28日
特許 6865760	自己認識生産ウエハ	2021年 4月28日
特許 6867159	縁部クリティカルディメンジョンの均一性制御用のプロセスキット	2021年 4月28日
特許 6867382	共形及び間隙充填型のアモルファスシリコン薄膜の堆積	2021年 4月28日
特許 6867429	金属ケイ素化合物層を形成する方法及びそこから形成された金属ケイ素化合物層	2021年 4月28日
特許 6860664	改善されたロードポートバックプレーンのためのシステム、装置、及び方法	2021年 4月21日
特許 6861323	チャンバ生産性向上のための希土類系オキシフッ化物ＡＬＤコーティング	2021年 4月21日
特許 6861710	非対称なチャンバ環境における均一なウエハ温度の実現	2021年 4月21日
特許 6862095	エピタキシャル成長装置用のチャンバ構成要素	2021年 4月21日
特許 6862505	方位角方向及び半径方向分布制御を備えたマルチゾーンガス注入アセンブリ	2021年 4月21日
特許 6857652	タングステン膜の低抵抗物理的気相堆積のためのシステムおよび方法	2021年 4月14日
特許 6858871	自己制御原子熱エッチングシステム及び方法	2021年 4月14日
特許 6859371	エルビウム系プラズマ耐性セラミックコーティングの堆積	2021年 4月14日

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6870090 6870113 6865231 6865760 6867159 6867382 6867429 6860664 6861323 6861710 6862095 6862505 6857652 6858871 6859371

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