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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第132位 313件
(2020年:第138位 311件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第117位 241件
(2020年:第136位 210件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6870090 | 半導体基板処理システムのための先進インシトゥ粒子検出システム | 2021年 5月12日 | |
特許 6870113 | ゲッターを備えたアニールチャンバ | 2021年 5月12日 | |
特許 6865231 | 堆積後のガス管内部の残留前駆体を除去する装置および方法 | 2021年 4月28日 | |
特許 6865760 | 自己認識生産ウエハ | 2021年 4月28日 | |
特許 6867159 | 縁部クリティカルディメンジョンの均一性制御用のプロセスキット | 2021年 4月28日 | |
特許 6867382 | 共形及び間隙充填型のアモルファスシリコン薄膜の堆積 | 2021年 4月28日 | |
特許 6867429 | 金属ケイ素化合物層を形成する方法及びそこから形成された金属ケイ素化合物層 | 2021年 4月28日 | |
特許 6860664 | 改善されたロードポートバックプレーンのためのシステム、装置、及び方法 | 2021年 4月21日 | |
特許 6861323 | チャンバ生産性向上のための希土類系オキシフッ化物ALDコーティング | 2021年 4月21日 | |
特許 6861710 | 非対称なチャンバ環境における均一なウエハ温度の実現 | 2021年 4月21日 | |
特許 6862095 | エピタキシャル成長装置用のチャンバ構成要素 | 2021年 4月21日 | |
特許 6862505 | 方位角方向及び半径方向分布制御を備えたマルチゾーンガス注入アセンブリ | 2021年 4月21日 | |
特許 6857652 | タングステン膜の低抵抗物理的気相堆積のためのシステムおよび方法 | 2021年 4月14日 | |
特許 6858871 | 自己制御原子熱エッチングシステム及び方法 | 2021年 4月14日 | |
特許 6859371 | エルビウム系プラズマ耐性セラミックコーティングの堆積 | 2021年 4月14日 |
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6870090 6870113 6865231 6865760 6867159 6867382 6867429 6860664 6861323 6861710 6862095 6862505 6857652 6858871 6859371
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