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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第56位 541件 (2021年:第132位 313件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2022-545500 | 電子ビームPVD終点検出および閉ループ処理制御システム | 2022年10月27日 | |
特表 2022-545538 | 方向付けられたウエハローディングによる非対称性補正 | 2022年10月27日 | |
特表 2022-545260 | 指向性処理のための装置 | 2022年10月26日 | |
特表 2022-545261 | 均一性が改善される半導体処理装置 | 2022年10月26日 | |
特表 2022-545262 | プラズマ安定性を改善するための同調方法 | 2022年10月26日 | |
特表 2022-545263 | 化学機械研磨補正ツール | 2022年10月26日 | |
特表 2022-545279 | 医薬品の溶解度制御のための気相コーティング | 2022年10月26日 | |
特開 2022-163040 | 遠隔プラズマによる酸化へのアルゴン添加 | 2022年10月25日 | |
特開 2022-163081 | 導波結合器の製造方法 | 2022年10月25日 | |
特表 2022-544923 | 能動的に焦点を合わせるレーザビームのレーザスクライビング処理およびプラズマエッチング処理を用いるハイブリッドウエハダイシング手法 | 2022年10月24日 | |
特表 2022-544924 | 均一な回転ビームのレーザスクライビング処理およびプラズマエッチング処理を用いるハイブリッドウエハダイシング手法 | 2022年10月24日 | |
特表 2022-544782 | 非接触温度測定を用いた基板を処理するための方法および装置 | 2022年10月21日 | |
特表 2022-544783 | 膜の位置制御を有する研磨ヘッド | 2022年10月21日 | |
特表 2022-544801 | 回転式磁気ハウジングを利用したチューニング可能な均一性制御 | 2022年10月21日 | |
特表 2022-544802 | 高いフローコンダクタンスのための対称型フローバルブ | 2022年10月21日 |
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2022-545500 2022-545538 2022-545260 2022-545261 2022-545262 2022-545263 2022-545279 2022-163040 2022-163081 2022-544923 2022-544924 2022-544782 2022-544783 2022-544801 2022-544802
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