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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2022-543211	半導体処理チャンバ及びそれを洗浄するための方法	2022年10月11日
特表 2022-542393	高周波電力リターン経路	2022年10月 3日
特表 2022-542432	再構成可能なＦＩＮＦＥＴベースの人工ニューロン及びシナプスデバイス	2022年10月 3日
特表 2022-542276	ＤＲＡＭを処理する方法	2022年 9月30日
特開 2022-141681	ユニバーサルプロセスキット	2022年 9月29日
特表 2022-542030	低放出注入マスク及び基板アセンブリ	2022年 9月29日
特表 2022-542090	プロセスキットのシース及び温度制御	2022年 9月29日
特表 2022-542091	エッチングチャンバのための低接触面積基板支持体	2022年 9月29日
特表 2022-542170	パターニングされた金属酸化物フォトレジストの線量減少	2022年 9月29日
特表 2022-541735	誘電体材料を硬化させる方法及び装置	2022年 9月27日
特開 2022-140436	ホール効果が促進された容量結合プラズマ源、軽減システム、および真空処理システム	2022年 9月26日
特表 2022-541511	半導体製造におけるマルチゾーンヒータのモデルベース制御	2022年 9月26日
特表 2022-541573	基板上にフィルムを形成するための蒸発器チャンバ	2022年 9月26日
特開 2022-137014	機械学習とパッドの厚さの補正を使用した研磨装置	2022年 9月21日
特開 2022-137077	改良型の半角ノズル	2022年 9月21日

541 件中 121-135 件を表示

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2022-543211 2022-542393 2022-542432 2022-542276 2022-141681 2022-542030 2022-542090 2022-542091 2022-542170 2022-541735 2022-140436 2022-541511 2022-541573 2022-137014 2022-137077

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