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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第56位 541件 (2021年:第132位 313件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第112位 303件 (2021年:第117位 241件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2022-544266 | エッチング限界寸法制御のための非共形性の高選択性膜 | 2022年10月17日 | |
特表 2022-543747 | 半導体処理チャンバ及びそれを洗浄するための方法 | 2022年10月14日 | |
特表 2022-543748 | 広角イオンビームのための抽出アセンブリを備えた装置およびシステム | 2022年10月14日 | |
特表 2022-543749 | トランジスタのヒ素拡散プロファイルエンジニアリング | 2022年10月14日 | |
特表 2022-543862 | 処理チャンバ部品のための保護用多層コーティング | 2022年10月14日 | |
特表 2022-543564 | 前駆体供給用の濃度センサを較正するための方法および装置 | 2022年10月13日 | |
特表 2022-543570 | 分離バルブ | 2022年10月13日 | |
特表 2022-543602 | 3D NANDのための改質スタック | 2022年10月13日 | |
特開 2022-153352 | 露光後ベークのための装置 | 2022年10月12日 | |
特開 2022-153353 | 空間プラズマ原子層堆積(PE-ALD)処理ツール用のマイクロ波プラズマ源 | 2022年10月12日 | |
特開 2022-153371 | 可撓性カバーレンズフィルム | 2022年10月12日 | |
特開 2022-153384 | 調整可能な大きい垂直磁気異方性を有する磁気トンネル接合 | 2022年10月12日 | |
特開 2022-153387 | 角度付きエッチングツール内での基板回転によるエッチング角度の制御 | 2022年10月12日 | |
特開 2022-153414 | 雰囲気が制御された移送モジュール及び処理システム | 2022年10月12日 | |
特開 2022-153442 | プラズマ処理チャンバ内のウエハキャリアのための高度な温度制御 | 2022年10月12日 |
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2022-544266 2022-543747 2022-543748 2022-543749 2022-543862 2022-543564 2022-543570 2022-543602 2022-153352 2022-153353 2022-153371 2022-153384 2022-153387 2022-153414 2022-153442
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