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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第32位 708件
（
2022年：第56位 541件）
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第80位 398件
（2022年：第112位 303件）
（ランキング更新日：2025年6月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7402312 | 能動的に焦点を合わせるレーザビームのレーザスクライビング処理およびプラズマエッチング処理を用いるハイブリッドウエハダイシング手法 | 2023年12月20日 | |
| 特許 7401534 | インシトゥ電磁誘導監視のためのエッジ再構成における基板ドーピングの補正 | 2023年12月19日 | |
| 特許 7401560 | 裏側ポンピングを用いた熱処理チャンバのリッド | 2023年12月19日 | |
| 特許 7401593 | 空隙を形成するためのシステム及び方法 | 2023年12月19日 | |
| 特許 7401654 | 均一性が改善される半導体処理装置 | 2023年12月19日 | |
| 特許 7399964 | リンをドープされた窒化ケイ素膜の堆積方法 | 2023年12月18日 | |
| 特許 7399155 | 静電容量式剪断センサを備えた研磨システム | 2023年12月15日 | |
| 特許 7398423 | モニタリングデバイスを有する処理ツール | 2023年12月14日 | |
| 特許 7398553 | 異なる基板のための共通静電チャック | 2023年12月14日 | |
| 特許 7398555 | キャリア近接マスクのための方法および装置 | 2023年12月14日 | |
| 特許 7398013 | 半導体装置及びクリーンルーム内の化学ガス汚染物質を測定するためのポータブルディスク | 2023年12月13日 | |
| 特許 7397186 | ＦｉｎＦＥＴ形成のためのキャップ酸化 | 2023年12月12日 | |
| 特許 7394771 | 光学装置改善のための湿潤層 | 2023年12月 8日 | |
| 特許 7394887 | 薄膜トランジスタを形成する方法 | 2023年12月 8日 | |
| 特許 7393437 | 完全にアライメント調整されたサブトラクティブプロセス及びその電子デバイス | 2023年12月 6日 |
398 件中 16-30 件を表示
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7402312 7401534 7401560 7401593 7401654 7399964 7399155 7398423 7398553 7398555 7398013 7397186 7394771 7394887 7393437
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