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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第32位 708件
(2022年:第56位 541件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第80位 398件
(2022年:第112位 303件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7386342 | 基板のガス放出を管理するためのシステム及び方法 | 2023年11月24日 | |
特許 7386375 | 分散された入力/出力(IO)制御及びインターロックリングアーキテクチャ | 2023年11月24日 | |
特許 7385621 | イオン-イオンプラズマ原子層エッチングプロセス及びリアクタ | 2023年11月22日 | |
特許 7384784 | 熱化学気相堆積(CVD)における均一性を改善するための装置及び方法 | 2023年11月21日 | |
特許 7384925 | ビットオーダバイナリ加重乗算器/積算器 | 2023年11月21日 | |
特許 7384928 | 可変深さデバイス構造を形成する方法 | 2023年11月21日 | |
特許 7385023 | 基板処理用支持体ブラケット装置および方法 | 2023年11月21日 | |
特許 7383749 | リチウム金属アノードのための、カルコゲナイドを用いたエクスシトゥ固体電解質界面修飾 | 2023年11月20日 | |
特許 7383036 | リソグラフィシステムの熱安定化のための動的冷却制御 | 2023年11月17日 | |
特許 7382155 | 電流帰還出力ステージを有するパルス発生器を使用してイオンエネルギー分布を制御する方法 | 2023年11月16日 | |
特許 7382329 | 基板支持体のためのプロセスキット | 2023年11月16日 | |
特許 7381713 | プロセスキットのシース及び温度制御 | 2023年11月15日 | |
特許 7381730 | リソグラフィシミュレーション及び光近接効果補正 | 2023年11月15日 | |
特許 7379353 | より優れた膜品質を可能にするためにマスク基板を処理する方法 | 2023年11月14日 | |
特許 7379510 | マスクレスリソグラフィのためのハーフトーンスキーム | 2023年11月14日 |
398 件中 46-60 件を表示
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7386342 7386375 7385621 7384784 7384925 7384928 7385023 7383749 7383036 7382155 7382329 7381713 7381730 7379353 7379510
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