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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第32位 708件
(2022年:第56位 541件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第80位 398件
(2022年:第112位 303件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7312259 | 低放出被覆及びイオン注入装置 | 2023年 7月20日 | |
特許 7312316 | 指向性処理のための装置 | 2023年 7月20日 | |
特許 7309313 | 低蒸気圧のエアゾールに支援されるCVD | 2023年 7月18日 | |
特許 7309697 | 基板のフィーチャをコバルトで充填する方法および装置 | 2023年 7月18日 | |
特許 7309812 | 制御された孔隙率を有する印刷された化学機械研磨パッド | 2023年 7月18日 | |
特許 7309882 | 真空チャンバ内で基板をコーティングするための気相堆積装置及び方法 | 2023年 7月18日 | |
特許 7308819 | タングステン酸化還元による、シームのないタングステン充填 | 2023年 7月14日 | |
特許 7308927 | 前駆体送達システム | 2023年 7月14日 | |
特許 7308943 | レイアウト適応型パッケージングの動的生成 | 2023年 7月14日 | |
特許 7308950 | 極低温静電チャック | 2023年 7月14日 | |
特許 7308031 | プラズマ処理中に基板における電圧波形を制御するためのシステム及び方法 | 2023年 7月13日 | |
特許 7308350 | 膜の位置制御を有する研磨ヘッド | 2023年 7月13日 | |
特許 7305622 | シリサイド化による金属含有膜の体積膨張 | 2023年 7月10日 | |
特許 7305793 | ウエハから透明基板へのナノ構造の転写 | 2023年 7月10日 | |
特許 7305857 | インデックス可能な側方収容ポッド装置、加熱側方収容ポッド装置、システム、及び方法 | 2023年 7月10日 |
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7312259 7312316 7309313 7309697 7309812 7309882 7308819 7308927 7308943 7308950 7308031 7308350 7305622 7305793 7305857
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7月2日(水) -
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7月3日(木) -
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