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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第32位 708件
(2022年:第56位 541件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第80位 398件
(2022年:第112位 303件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7304935 | 非接触洗浄モジュール | 2023年 7月 7日 | |
特許 7304966 | 低い屈折率及び低い水蒸気透過率を有する水分バリア膜 | 2023年 7月 7日 | |
特許 7304192 | ゾーン制御された、希土類酸化物ALD及びCVDコーティング | 2023年 7月 6日 | |
特許 7304435 | 基板上に膜を形成するための方法およびシステム | 2023年 7月 6日 | |
特許 7303874 | ビット線抵抗低減のためのキャップ層 | 2023年 7月 5日 | |
特許 7301903 | 比例式熱流体送達システムを使用した基板キャリア | 2023年 7月 3日 | |
特許 7301931 | ハードマスク及びその他のパターニング応用のための高密度低温炭素膜 | 2023年 7月 3日 | |
特許 7302041 | ラインのうねりを低減するための方法 | 2023年 7月 3日 | |
特許 7299887 | 窒化ケイ素膜のドライエッチング速度の低減 | 2023年 6月28日 | |
特許 7299898 | 高圧アニールを用いたシーム修復 | 2023年 6月28日 | |
特許 7299970 | 改良型研磨パッドのための配合物 | 2023年 6月28日 | |
特許 7300009 | 色変換層のインシトゥ硬化 | 2023年 6月28日 | |
特許 7299250 | 残留物除去 | 2023年 6月27日 | |
特許 7297440 | 移動可能及び取り外し可能なプロセスキット | 2023年 6月26日 | |
特許 7297727 | フォトレジストウエハの露光後プロセスの方法及び装置 | 2023年 6月26日 |
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7304935 7304966 7304192 7304435 7303874 7301903 7301931 7302041 7299887 7299898 7299970 7300009 7299250 7297440 7297727
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7月2日(水) -
7月3日(木) -
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