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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第32位 708件
(2022年:第56位 541件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第80位 398件
(2022年:第112位 303件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7200367 | 改善された温度均一性での空間ウエハ処理 | 2023年 1月 6日 | |
特許 7200387 | 半導体製造装置ツールにおけるニューラルネットワークを用いたチャンバ整合化 | 2023年 1月 6日 | |
特許 7199468 | プラズマ均一性を径方向制御及び方位角制御するためのシステム | 2023年 1月 5日 | |
特許 7199515 | 物理的気相堆積チャンバ内電磁石 | 2023年 1月 5日 | |
特許 7199531 | 極紫外線マスク吸収体用のTA‐CU合金 | 2023年 1月 5日 | |
特許 7198878 | 磁気トンネル接合を堆積するための超平滑底部電極面の形成方法 | 2023年 1月 4日 | |
特許 7198935 | 極紫外線マスク吸収体材料 | 2023年 1月 4日 | |
特許 7198936 | 極紫外線マスク吸収体材料 | 2023年 1月 4日 |
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7200367 7200387 7199468 7199515 7199531 7198878 7198935 7198936
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