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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第32位 708件
(2022年:第56位 541件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第80位 398件
(2022年:第112位 303件)
(ランキング更新日:2025年3月12日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7223075 | 熱質量が小さい加圧チャンバ | 2023年 2月15日 | |
特許 7223141 | PVDチャンバのための縦長の堆積リングを有するプロセスキット | 2023年 2月15日 | |
特許 7221879 | 基板及びチャンバ部品上への金属ケイ素化合物層の堆積 | 2023年 2月14日 | |
特許 7222073 | 第1のキャリア及び第2のキャリアを搬送するための装置、基板を垂直に処理するための処理システム、及びそれらの方法 | 2023年 2月14日 | |
特許 7221234 | 付加製造プロセスにより製作される研磨パッド | 2023年 2月13日 | |
特許 7221279 | 亜酸化物からの自己整合構造 | 2023年 2月13日 | |
特許 7219233 | 半導体処理チャンバ内でのガス供給のための装置および方法 | 2023年 2月 7日 | |
特許 7213808 | イオンエネルギー分布関数(IEDF)の生成 | 2023年 1月27日 | |
特許 7213827 | 高アスペクト比構造における間隙充填方法 | 2023年 1月27日 | |
特許 7212701 | デジタルリソグラフィシステムでのマルチ基板処理 | 2023年 1月25日 | |
特許 7211969 | 3D NANDに適用するための低誘電率酸化物および低抵抗のOPスタック | 2023年 1月24日 | |
特許 7210608 | 一次的結合及び永久的結合を用いた多重積層光学素子 | 2023年 1月23日 | |
特許 7210682 | 材料構造を改良するための処理 | 2023年 1月23日 | |
特許 7210730 | 粒子発生を低減するためのガスディフューザー取付板 | 2023年 1月23日 | |
特許 7209675 | エピタキシャル成長による成膜方法、および、エピタキシャル成長装置 | 2023年 1月20日 |
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7223075 7223141 7221879 7222073 7221234 7221279 7219233 7213808 7213827 7212701 7211969 7210608 7210682 7210730 7209675
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3月12日(水) - 東京 港区
3月12日(水) -
3月12日(水) - 愛知 名古屋市中区
3月12日(水) -
3月12日(水) -
3月13日(木) - 東京 港区
3月13日(木) -
3月13日(木) -
3月14日(金) -
3月14日(金) -
3月14日(金) -
3月12日(水) - 東京 港区
3月18日(火) -
3月18日(火) - 東京 港区
3月19日(水) -
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3月21日(金) -
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