ホーム > 特許ランキング > アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド > 2023年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2023年 出願公開件数ランキング 第32位 708件
(2022年:第56位 541件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第80位 398件
(2022年:第112位 303件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7223075 | 熱質量が小さい加圧チャンバ | 2023年 2月15日 | |
特許 7223141 | PVDチャンバのための縦長の堆積リングを有するプロセスキット | 2023年 2月15日 | |
特許 7221879 | 基板及びチャンバ部品上への金属ケイ素化合物層の堆積 | 2023年 2月14日 | |
特許 7222073 | 第1のキャリア及び第2のキャリアを搬送するための装置、基板を垂直に処理するための処理システム、及びそれらの方法 | 2023年 2月14日 | |
特許 7221234 | 付加製造プロセスにより製作される研磨パッド | 2023年 2月13日 | |
特許 7221279 | 亜酸化物からの自己整合構造 | 2023年 2月13日 | |
特許 7219233 | 半導体処理チャンバ内でのガス供給のための装置および方法 | 2023年 2月 7日 | |
特許 7213808 | イオンエネルギー分布関数(IEDF)の生成 | 2023年 1月27日 | |
特許 7213827 | 高アスペクト比構造における間隙充填方法 | 2023年 1月27日 | |
特許 7212701 | デジタルリソグラフィシステムでのマルチ基板処理 | 2023年 1月25日 | |
特許 7211969 | 3D NANDに適用するための低誘電率酸化物および低抵抗のOPスタック | 2023年 1月24日 | |
特許 7210608 | 一次的結合及び永久的結合を用いた多重積層光学素子 | 2023年 1月23日 | |
特許 7210682 | 材料構造を改良するための処理 | 2023年 1月23日 | |
特許 7210730 | 粒子発生を低減するためのガスディフューザー取付板 | 2023年 1月23日 | |
特許 7209675 | エピタキシャル成長による成膜方法、および、エピタキシャル成長装置 | 2023年 1月20日 |
398 件中 361-375 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
7223075 7223141 7221879 7222073 7221234 7221279 7219233 7213808 7213827 7212701 7211969 7210608 7210682 7210730 7209675
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。
7月1日(火) -
7月2日(水) -
7月2日(水) -
7月3日(木) -
7月3日(木) -
7月1日(火) -
7月7日(月) -
7月8日(火) -
7月8日(火) - 東京 港区
7月9日(水) - 東京 品川区
7月9日(水) -
7月9日(水) -
7月9日(水) -
7月10日(木) -
7月10日(木) - 大阪 大阪市
ますます頼りにされる商標担当者になるための3つのポイント ~ 社内の商標相談にサクサクと答えられるエッセンスを教えます ~
7月11日(金) - 東京 千代田区
7月11日(金) -
7月11日(金) -
7月7日(月) -