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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7253015 高圧ウエハ処理システム及び関連方法 2023年 4月 5日
特許 7250774 ウエハ上での正確なセンサ位置決定のためのチャタリング補正 2023年 4月 3日
特許 7250846 ワイヤグリッド偏光板製造方法 2023年 4月 3日
特許 7250857 低K及びその他の誘電体膜をエッチングするための処理チャンバ 2023年 4月 3日
特許 7250962 デュアルポアセンサの製造方法 2023年 4月 3日
特許 7249746 物理的気相堆積チャンバの粒子低減装置及び方法 2023年 3月31日
特許 7250076 ウエハ処理システム向けの、ボルト留めされたウエハチャックの熱管理のシステム及び方法 2023年 3月31日
特許 7250098 対称プラズマ処理チャンバ 2023年 3月31日
特許 7249407 補完的なパターンのステーション設計 2023年 3月30日
特許 7246478 整形DCパルスプラズマ処理装置におけるエッジリング制御のための回路 2023年 3月27日
特許 7244276 耐腐食性保持リング 2023年 3月22日
特許 7244552 3D NANDメモリデバイスにおける垂直エッチング性能の改善のための、膜のプラズマ化学気相堆積 2023年 3月22日
特許 7244623 粒子生成を低減するためのガスディフューザー支持構造 2023年 3月22日
特許 7244676 高温計を用いた基板温度の較正方法及び装置 2023年 3月22日
特許 7242631 酸化ケイ素上の超薄型アモルファスシリコン膜の連続性を向上させるための前処理手法 2023年 3月20日

398 件中 301-315 件を表示

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7253015 7250774 7250846 7250857 7250962 7249746 7250076 7250098 7249407 7246478 7244276 7244552 7244623 7244676 7242631

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