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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第32位 708件
(2022年:第56位 541件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第80位 398件
(2022年:第112位 303件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7253015 | 高圧ウエハ処理システム及び関連方法 | 2023年 4月 5日 | |
特許 7250774 | ウエハ上での正確なセンサ位置決定のためのチャタリング補正 | 2023年 4月 3日 | |
特許 7250846 | ワイヤグリッド偏光板製造方法 | 2023年 4月 3日 | |
特許 7250857 | 低K及びその他の誘電体膜をエッチングするための処理チャンバ | 2023年 4月 3日 | |
特許 7250962 | デュアルポアセンサの製造方法 | 2023年 4月 3日 | |
特許 7249746 | 物理的気相堆積チャンバの粒子低減装置及び方法 | 2023年 3月31日 | |
特許 7250076 | ウエハ処理システム向けの、ボルト留めされたウエハチャックの熱管理のシステム及び方法 | 2023年 3月31日 | |
特許 7250098 | 対称プラズマ処理チャンバ | 2023年 3月31日 | |
特許 7249407 | 補完的なパターンのステーション設計 | 2023年 3月30日 | |
特許 7246478 | 整形DCパルスプラズマ処理装置におけるエッジリング制御のための回路 | 2023年 3月27日 | |
特許 7244276 | 耐腐食性保持リング | 2023年 3月22日 | |
特許 7244552 | 3D NANDメモリデバイスにおける垂直エッチング性能の改善のための、膜のプラズマ化学気相堆積 | 2023年 3月22日 | |
特許 7244623 | 粒子生成を低減するためのガスディフューザー支持構造 | 2023年 3月22日 | |
特許 7244676 | 高温計を用いた基板温度の較正方法及び装置 | 2023年 3月22日 | |
特許 7242631 | 酸化ケイ素上の超薄型アモルファスシリコン膜の連続性を向上させるための前処理手法 | 2023年 3月20日 |
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7253015 7250774 7250846 7250857 7250962 7249746 7250076 7250098 7249407 7246478 7244276 7244552 7244623 7244676 7242631
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