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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第55位 143件
（
2024年：第41位 605件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第33位 176件
（
2024年：第47位 555件）
（ランキング更新日：2025年4月11日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7634590 | 温度を測定するための装置 | 2025年 2月21日 | |
| 特許 7634609 | 金属オキソフォトレジストのための気相熱エッチング法 | 2025年 2月21日 | |
| 特許 7634642 | ホウ素がドープされたシリコン材料を利用した集積プロセス | 2025年 2月21日 | |
| 特許 7634644 | 多孔性プラグ結合 | 2025年 2月21日 | |
| 特許 7634663 | 三次元ダイナミックランダムアクセスメモリ（ＤＲＡＭ）及びその形成方法 | 2025年 2月21日 | |
| 特許 7634691 | 結晶厚さマイクロバランシングセンサのその場ＥＰＩ成長速度制御 | 2025年 2月21日 | |
| 特許 7634706 | ディスプレイ製造用の基板上にプリントするための装置及び方法 | 2025年 2月21日 | |
| 特許 7633936 | ＣＭＰ温度制御用の装置及び方法 | 2025年 2月20日 | |
| 特許 7634052 | 可変エッチング深さを有する斜め格子を製造する方法 | 2025年 2月20日 | |
| 特許 7634116 | 先進的なパッケージングのためのマイクロビア形成の方法 | 2025年 2月20日 | |
| 特許 7633160 | 半導体構造の有効酸化物厚さを低減する方法 | 2025年 2月19日 | |
| 特許 7633240 | プロセスチャンバのライナ用バネ式締め付けシステム | 2025年 2月19日 | |
| 特許 7633255 | チャンバ堆積とエッチングプロセス | 2025年 2月19日 | |
| 特許 7633337 | フラットパネルディスプレイ用の大面積高密度プラズマ処理チャンバ | 2025年 2月19日 | |
| 特許 7631238 | フラット光学装置製造用のフォトレジストローディングソリューション | 2025年 2月18日 |
176 件中 91-105 件を表示
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7634590 7634609 7634642 7634644 7634663 7634691 7634706 7633936 7634052 7634116 7633160 7633240 7633255 7633337 7631238
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