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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第30位 564件
(
2025年:第42位 589件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第44位 413件
(
2025年:第35位 572件)
(ランキング更新日:2026年10月23日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7929254 | EUVフォトレジストパターンのラインエッジラフネスを低減させるための方法 | 2026年10月 2日 | |
| 特許 7929251 | コンフォーマルモリブデン堆積 | 2026年10月 2日 | |
| 特許 7929178 | 化学機械研磨のための水蒸気生成 | 2026年10月 2日 | |
| 特許 7929163 | 直接ワード線コンタクト、および3Dメモリのための製造方法 | 2026年10月 2日 | |
| 特許 7929092 | 金属窒化物の堆積のための方法及び装置 | 2026年10月 2日 | |
| 特許 7927993 | アニリンパッシベーションを用いた誘電体オン誘電体選択的堆積 | 2026年10月 1日 | |
| 特許 7927688 | 不純物を含まない金属合金膜を形成するための方法 | 2026年10月 1日 | |
| 特許 7927178 | ゲートオールアラウンドデバイスのための内部スペーサライナ | 2026年 9月30日 | |
| 特許 7926038 | モデルトレーニングに使用可能な走査ラジカルセンサ | 2026年 9月28日 | |
| 特許 7925992 | CMP中のインシトゥコンディショナーディスク洗浄 | 2026年 9月28日 | |
| 特許 7925887 | 適用体積内へのボトムパージの侵入を防止し、ヒータ下のガス拡散を処理するハードウェア | 2026年 9月28日 | |
| 特許 7925079 | 気相コーティングと液相コーティングとを使用して電荷層を形成するための方法 | 2026年 9月25日 | |
| 特許 7925139 | 対称的な高周波帰還経路を提供するための動的インタフェース | 2026年 9月25日 | |
| 特許 7924332 | エンクロージャシステムの構造 | 2026年 9月24日 | |
| 特許 7924376 | 水素およびNH3プラズマ用途のための保護セラミックコーティングを有するプロセスキット | 2026年 9月24日 |
413 件中 46-60 件を表示
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7929254 7929251 7929178 7929163 7929092 7927993 7927688 7927178 7926038 7925992 7925887 7925079 7925139 7924332 7924376
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