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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第29位 574件
(
2025年:第42位 589件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第45位 420件
(
2025年:第35位 572件)
(ランキング更新日:2026年10月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7931806 | PVDスパッタチャンバ向けのバイアス可能なフラックスオプティマイザ/コリメータ | 2026年10月 7日 | |
| 特許 7931729 | 周期的高電圧バイアスを用いたプラズマ化学気相堆積 | 2026年10月 7日 | |
| 特許 7931064 | ハイブリッド学習モデルを用いて性能を向上させた半導体処理ツール | 2026年10月 6日 | |
| 特許 7931068 | 保護金属オキシフッ化物コーティング | 2026年10月 6日 | |
| 特許 7931133 | 製造機器のための診断による装置間マッチングおよび全トレースドリルダウン分析方法 | 2026年10月 6日 | |
| 特許 7931250 | 超格子臨界膜厚向上のための基板改質 | 2026年10月 6日 | |
| 特許 7931151 | ラジカル測定用センサ | 2026年10月 6日 | |
| 特許 7929163 | 直接ワード線コンタクト、および3Dメモリのための製造方法 | 2026年10月 2日 | |
| 特許 7929092 | 金属窒化物の堆積のための方法及び装置 | 2026年10月 2日 | |
| 特許 7929178 | 化学機械研磨のための水蒸気生成 | 2026年10月 2日 | |
| 特許 7929251 | コンフォーマルモリブデン堆積 | 2026年10月 2日 | |
| 特許 7929254 | EUVフォトレジストパターンのラインエッジラフネスを低減させるための方法 | 2026年10月 2日 | |
| 特許 7927993 | アニリンパッシベーションを用いた誘電体オン誘電体選択的堆積 | 2026年10月 1日 | |
| 特許 7927688 | 不純物を含まない金属合金膜を形成するための方法 | 2026年10月 1日 | |
| 特許 7927178 | ゲートオールアラウンドデバイスのための内部スペーサライナ | 2026年 9月30日 |
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7931806 7931729 7931064 7931068 7931133 7931250 7931151 7929163 7929092 7929178 7929251 7929254 7927993 7927688 7927178
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