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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第36位 390件
(2024年:第41位 605件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第33位 405件
(2024年:第47位 555件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7707340 | 選択的金属間隙充填のためのマルチステップ前洗浄 | 2025年 7月14日 | |
特許 7706378 | 耐薬品性を有する表面を備えたRF構成要素 | 2025年 7月11日 | |
特許 7706567 | 基板処理用のコーティングされた基板支持体アセンブリ | 2025年 7月11日 | |
特許 7706571 | ダイベースの変更を伴う化学機械研磨 | 2025年 7月11日 | |
特許 7705962 | イオンエネルギー制御を伴うプラズマ励起 | 2025年 7月10日 | |
特許 7705444 | 化学機械研磨中に不適合基板処理事象を検出する方法 | 2025年 7月 9日 | |
特許 7704758 | ボトムアップ間隙充填のための誘電体層上へのタングステンの選択的堆積の方法 | 2025年 7月 8日 | |
特許 7704822 | 半導体装置及びクリーンルーム内の化学ガス汚染物質を測定するためのポータブルディスク | 2025年 7月 8日 | |
特許 7704828 | ハードマスク及びその他のパターニング応用のための高密度ドープ炭素膜を製造するための方法 | 2025年 7月 8日 | |
特許 7704889 | 自動焦点位置制御部およびその使用方法を備えたデジタルリソグラフィ装置 | 2025年 7月 8日 | |
特許 7704895 | 組み込まれたロードロックと共に使用可能であるファクトリインターフェースロボット | 2025年 7月 8日 | |
特許 7703507 | イオンエネルギー分布関数(IEDF)の生成 | 2025年 7月 7日 | |
特許 7702880 | 測定システム及び光の回折方法 | 2025年 7月 4日 | |
特許 7702965 | 水晶マイクロバランス濃度モニタ | 2025年 7月 4日 | |
特許 7703084 | エネルギー拡散イオンビームのための装置、システム、及び方法 | 2025年 7月 4日 |
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7707340 7706378 7706567 7706571 7705962 7705444 7704758 7704822 7704828 7704889 7704895 7703507 7702880 7702965 7703084
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9月12日(金) -
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