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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第29位 589件
(
2025年:第42位 589件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第44位 423件
(
2025年:第35位 572件)
(ランキング更新日:2026年10月30日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7923807 | 蒸気用途のインライン濾過 | 2026年 9月18日 | |
| 特許 7923681 | 傾斜酸化を用いたシームレスな間隙充填のための方法 | 2026年 9月18日 | |
| 特許 7923419 | デュアル個別パルサーを使用してマイクロパルス化スキームを実装するためのシステム及び方法 | 2026年 9月17日 | |
| 特許 7923180 | アーク発生を排除し、PVD処理の均一なガス分布を改良するためのガス注入処理キット | 2026年 9月17日 | |
| 特許 7923253 | ゲートオールアラウンドFETアーキテクチャ用の閾値電圧調節 | 2026年 9月17日 | |
| 特許 7922870 | ラジカルセンサ基板 | 2026年 9月16日 | |
| 特許 7922815 | 複数のプラズマ結合面の制御及び予測並びに対応する電力伝送 | 2026年 9月16日 | |
| 特許 7922707 | ドーピング技術 | 2026年 9月16日 | |
| 特許 7922626 | プラズマプロセスを分析するためのデバイスにおける2段階イオン電流測定 | 2026年 9月16日 | |
| 特許 7922055 | ファクトリインターフェースのための短縮されたロードポート | 2026年 9月15日 | |
| 特許 7922155 | プラズマチャンバにおける堅牢な発火及び再点火のための補助プラズマ源 | 2026年 9月15日 | |
| 特許 7922174 | プラズマドーピングチャンバ内の炭素汚染を軽減するためのカバーリング | 2026年 9月15日 | |
| 特許 7922178 | 炭素ドープ剥離層を有するモノリシック相補型電界効果トランジスタ | 2026年 9月15日 | |
| 特許 7922279 | ディスプレイデバイス用色変換層およびディスプレイデバイスを形成する方法 | 2026年 9月15日 | |
| 特許 7922184 | 半導体ウエハ処理における変位測定 | 2026年 9月15日 |
423 件中 76-90 件を表示
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7923807 7923681 7923419 7923180 7923253 7922870 7922815 7922707 7922626 7922055 7922155 7922174 7922178 7922279 7922184
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