特許ランキング - 出願人詳細情報 -

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

※ ログインすれば出願人(アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2024年出願公開件数ランキング　　　第41位　605件（2023年：第32位　708件）

　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第47位　555件（2023年：第80位　398件）

（ランキング更新日：2024年12月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7583148	裏側ビア露出処理のための方法および装置	2024年11月13日
特許 7580386	熱酸化品質が高い厚い酸化膜を低温で成長させる方法	2024年11月11日
特許 7580465	ＡＬＤ前駆体送達用シャワーヘッド	2024年11月11日
特許 7580540	ＰＥＣＶＤによるＳＩギャップ充填の方法	2024年11月11日
特許 7580543	化学機械研磨のためのテクスチャード加工された小型パッド	2024年11月11日
特許 7580565	広角イオンビームのための可変抽出アセンブリ	2024年11月11日
特許 7580574	真空下でフローコンダクタンスを変化させるためのバルブ	2024年11月11日
特許 7580619	半導体チャンバ部品を洗浄するための高圧洗浄方法及び装置	2024年11月11日
特許 7579791	基板を処理する方法	2024年11月 8日
特許 7579475	変形可能な基板チャック	2024年11月 7日
特許 7578664	交換可能なインターフェースプレートを有する再構成可能なメインフレーム	2024年11月 6日
特許 7578716	ＥＰＩチャンバのためのインシトゥ温度マッピング	2024年11月 6日
特許 7578724	高温真空分離処理ミニ環境	2024年11月 6日
特許 7577449	３Ｄ－ＮＡＮＤデバイスでのワードライン分離のための方法	2024年11月 5日
特許 7577744	独立したイオン源及びラジカル源を使用した基板処理のための装置及び技法	2024年11月 5日

555 件中 76-90 件を表示

... 6

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

7583148 7580386 7580465 7580540 7580543 7580565 7580574 7580619 7579791 7579475 7578664 7578716 7578724 7577449 7577744

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数