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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第29位 569件
(
2025年:第42位 589件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第44位 418件
(
2025年:第35位 572件)
(ランキング更新日:2026年10月26日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7925887 | 適用体積内へのボトムパージの侵入を防止し、ヒータ下のガス拡散を処理するハードウェア | 2026年 9月28日 | |
| 特許 7925139 | 対称的な高周波帰還経路を提供するための動的インタフェース | 2026年 9月25日 | |
| 特許 7925079 | 気相コーティングと液相コーティングとを使用して電荷層を形成するための方法 | 2026年 9月25日 | |
| 特許 7924425 | 基板歳差運動を伴う基板研磨のための処理パラメータの制御 | 2026年 9月24日 | |
| 特許 7924332 | エンクロージャシステムの構造 | 2026年 9月24日 | |
| 特許 7924376 | 水素およびNH3プラズマ用途のための保護セラミックコーティングを有するプロセスキット | 2026年 9月24日 | |
| 特許 7924481 | ビアボイド防止のための中間のライン誘電体層エンジニアリング | 2026年 9月24日 | |
| 特許 7923807 | 蒸気用途のインライン濾過 | 2026年 9月18日 | |
| 特許 7923681 | 傾斜酸化を用いたシームレスな間隙充填のための方法 | 2026年 9月18日 | |
| 特許 7923809 | ホウ素がドープされたシリコン材料を利用した集積プロセス | 2026年 9月18日 | |
| 特許 7923840 | エピ自己発熱型センサチューブによるその場成長速度センサ | 2026年 9月18日 | |
| 特許 7923894 | インシトゥパッド調整を可能にするためのパッドコンディショナの周りのパッド表面洗浄デバイス | 2026年 9月18日 | |
| 特許 7923180 | アーク発生を排除し、PVD処理の均一なガス分布を改良するためのガス注入処理キット | 2026年 9月17日 | |
| 特許 7923253 | ゲートオールアラウンドFETアーキテクチャ用の閾値電圧調節 | 2026年 9月17日 | |
| 特許 7923419 | デュアル個別パルサーを使用してマイクロパルス化スキームを実装するためのシステム及び方法 | 2026年 9月17日 |
418 件中 61-75 件を表示
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7925887 7925139 7925079 7924425 7924332 7924376 7924481 7923807 7923681 7923809 7923840 7923894 7923180 7923253 7923419
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