特許ランキング - 出願人詳細情報 -

カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

※ ログインすれば出願人(カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第366位　102件（2015年：第425位　82件）

　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第337位　92件（2015年：第402位　64件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2016-525232	光学アセンブリ	2016年 8月22日
特開 2016-148873	結像光学系	2016年 8月18日
特表 2016-524182	基板内に構造を作製するためのシステム	2016年 8月12日
特表 2016-524184	光学素子及び当該光学素子に対する放射の影響を低減する手段を備えた光学コンポーネント	2016年 8月12日
特開 2016-145985	結像誤差の決定を行う光学結像装置	2016年 8月12日
特開 2016-146000	リソグラフィ投影対物器械を修正／修理する方法	2016年 8月12日
特表 2016-523379	フォトリソグラフィマスクの基板上のアラインメントマークの基準点の自動決定のための方法及びデバイス	2016年 8月 8日
特表 2016-523386	分離コーティングを有するミラーの表面補正	2016年 8月 8日
特表 2016-523388	マイクロリソグラフィ投影露光システムのミラー及びミラーを加工する方法	2016年 8月 8日
特開 2016-136253	マニピュレータを含む投影露光装置及び投影露光装置を制御する方法	2016年 7月28日
特表 2016-521373	放射コレクタ、放射源及びリソグラフィ装置	2016年 7月21日
特開 2016-128920	浸液蒸発作用の低い光学結像	2016年 7月14日
特表 2016-518619	光照射分布を変化させるマイクロリソグラフィ装置及び方法	2016年 6月23日
特表 2016-518624	多層コーティングを備えた光学素子及び当該光学素子を備えた光学装置	2016年 6月23日
特表 2016-517535	光学系の少なくとも１つの素子を作動させる構成体	2016年 6月16日

104 件中 46-60 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2016-525232 2016-148873 2016-524182 2016-524184 2016-145985 2016-146000 2016-523379 2016-523386 2016-523388 2016-136253 2016-521373 2016-128920 2016-518619 2016-518624 2016-517535

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数