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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

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　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第366位　102件（2015年：第425位　82件）

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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2016-75962	マイクロリソグラフィのための投影露光装置に使用するファセットミラー	2016年 5月12日
特表 2016-512615	拡大結像光学ユニット及びそのような結像光学ユニットを有するＥＵＶマスク検査系	2016年 4月28日
特表 2016-512647	ガス混合物の質量分析試験のための方法および質量分析計	2016年 4月28日
特表 2016-511440	マスク検査システムのための照明光学ユニット及びそのような照明光学ユニットを有するマスク検査システム	2016年 4月14日
特表 2016-511441	投影リソグラフィのための照明光学ユニット	2016年 4月14日
特開 2016-53741	マイクロリソグラフィ投影対物レンズ	2016年 4月14日
特表 2016-510425	マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系	2016年 4月 7日
特表 2016-510141	マイクロリソグラフィ装置	2016年 4月 4日
特表 2016-510142	波面マニピュレータを有する投影レンズ	2016年 4月 4日
特表 2016-509687	偏光測定デバイス、リソグラフィ装置、測定構成体、及び偏光測定方法	2016年 3月31日
特開 2016-42192	マイクロリソグラフィのための投影対物系、投影露光装置、投影露光方法、及び光学補正プレート	2016年 3月31日
特表 2016-509259	投影露光装置に使用される出力ビームを発生させるためのＥＵＶ光源	2016年 3月24日
特表 2016-509270	ＥＵＶリソグラフィー用の光学素子及び光学系、及びこの光学系を処理する方法	2016年 3月24日
特開 2016-35606	マイクロリソグラフィ投影露光装置においてマスクを照明するための照明システム	2016年 3月17日
特表 2016-507900	ビーム反転モジュールおよびそのようなビーム反転モジュールを有する光パワー増幅器	2016年 3月10日

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2016-75962 2016-512615 2016-512647 2016-511440 2016-511441 2016-53741 2016-510425 2016-510141 2016-510142 2016-509687 2016-42192 2016-509259 2016-509270 2016-35606 2016-507900

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