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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第426位 61件
(
2024年:第485位 63件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第556位 35件
(
2024年:第517位 51件)
(ランキング更新日:2025年10月29日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7724209 | 多走査電子顕微鏡法を使用したウェーハアライメント | 2025年 8月15日 | |
| 特許 7724313 | 光学装置、目標変形を調整する方法、及びリソグラフィシステム | 2025年 8月15日 | |
| 特許 7719089 | ウェハ中の検査ボリュームの断面画像化の方法 | 2025年 8月 5日 | |
| 特許 7717107 | 特にマイクロリソグラフィのための光学系および光学系を動作するための方法 | 2025年 8月 1日 | |
| 特許 7713496 | 集束粒子ビームを使用してサンプルを結像(image)および処理するためのデバイス | 2025年 7月25日 | |
| 特許 7712926 | 光学系を装着する方法 | 2025年 7月24日 | |
| 特許 7713092 | 粒子ビームを用いてサンプルを分析および/または処理するための装置および方法 | 2025年 7月24日 | |
| 特許 7711224 | 投影露光装置及び投影露光装置のコンポーネントを設計する方法 | 2025年 7月22日 | |
| 特許 7708791 | 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置のミラー | 2025年 7月15日 | |
| 特許 7705433 | メッシュ完全性検査 | 2025年 7月 9日 | |
| 特許 7696000 | 光学装置及び光学装置を制御する方法 | 2025年 6月19日 | |
| 特許 7691935 | 光学素子の支持 | 2025年 6月12日 | |
| 特許 7692034 | 試料を粒子線で分析および/または処理するための装置および方法 | 2025年 6月12日 | |
| 特許 7690654 | 測定又は検査装置及び表面を測定又は検査する方法 | 2025年 6月10日 | |
| 特許 7678217 | リソグラフィマスクのために用いられる蒸着材料の光学特性を決定するための方法および装置 | 2025年 5月15日 |
35 件中 16-30 件を表示
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7724209 7724313 7719089 7717107 7713496 7712926 7713092 7711224 7708791 7705433 7696000 7691935 7692034 7690654 7678217
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10月29日(水) - 東京 港区
10月29日(水) -
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10月30日(木) -
10月30日(木) -
10月30日(木) - 大阪 大阪市
10月30日(木) - 愛知 名古屋市
10月31日(金) -
10月31日(金) -
10月31日(金) -
10月29日(水) - 東京 港区
11月4日(火) -
11月4日(火) - 大阪 大阪市
11月5日(水) -
11月5日(水) -
11月6日(木) - 東京 港区
11月6日(木) - 大阪 大阪市
11月6日(木) - 大阪 大阪市
11月7日(金) -
11月7日(金) -
11月7日(金) -
11月4日(火) -