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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第471位 59件 (2023年:第628位 47件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7503094 | リソグラフィマスクへの測定光衝突に対する、波長依存測定光反射率の効果、および測定光の偏光の効果を測定する方法 | 2024年 6月19日 | |
特許 7503097 | マイクロリソグラフィ微細構造化構成要素の像を解析する方法および装置 | 2024年 6月19日 | |
特許 7503098 | 測定される入射瞳内で照明光によって照明されたときの光学系の結像品質を決定するための方法 | 2024年 6月19日 | |
特許 7496839 | 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置用のミラー | 2024年 6月 7日 | |
特許 7495922 | 反射光学素子 | 2024年 6月 5日 | |
特許 7493102 | 半導体リソグラフィ用の投影露光装置のアクチュエータを測定する方法及び装置 | 2024年 5月30日 | |
特許 7482323 | マイクロリソグラフィ用適応光学素子 | 2024年 5月13日 | |
特許 7477577 | 結像光学製造システムの目標波面を再生する方法、およびその方法を実施する計測システム | 2024年 5月 1日 | |
特許 7475450 | 保護コーティングを有する光学素子、その製造方法及び光学装置 | 2024年 4月26日 | |
特許 7461407 | 位置合わせ誤差を決定するための方法 | 2024年 4月 3日 | |
特許 7441640 | マイクロリソグラフィ投影露光装置に関してマニピュレータを制御する制御装置及び方法 | 2024年 3月 1日 | |
特許 7438185 | マイクロリソグラフィ投影露光装置用のミラー、及びデフォーマブルミラーの作動方法 | 2024年 2月26日 | |
特許 7429691 | EUVプラズマ源において励起レーザービームを測定するための計測システムおよび方法 | 2024年 2月 8日 | |
特許 7426494 | 干渉形状計測用の測定装置 | 2024年 2月 1日 | |
特許 7414883 | 計測システムの照明光学ユニットのための瞳絞り | 2024年 1月16日 |
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7503094 7503097 7503098 7496839 7495922 7493102 7482323 7477577 7475450 7461407 7441640 7438185 7429691 7426494 7414883
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11月22日(金) -
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11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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