特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ケーエルエー−テンカー　コーポレイション

※ ログインすれば出願人(ケーエルエー−テンカー　コーポレイション)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2018年出願公開件数ランキング　　　第363位　103件（2017年：第422位　98件）

　■　2018年特許取得件数ランキング　　　第358位　78件（2017年：第472位　54件）

（ランキング更新日：2025年10月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

ケーエルエー−テンカー　コーポレイションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6322141	変調光源を備える光学計測ツール	2018年 5月 9日
特許 6316800	半導体検査ツールにおいてサンプルステージの運動を時間遅延積分電荷結合素子で同期させる装置および方法	2018年 4月25日
特許 6316898	プラズマチャンバのためのプロセス条件検知デバイス及び方法	2018年 4月25日
特許 6312370	ウェーハジオメトリ計測ツールによるウェーハ表面フィーチャの検出、分類および定量化のためのシステムおよび方法	2018年 4月18日
特許 6312641	検査データと組み合わせて設計データを使用するための方法	2018年 4月18日
特許 6312642	検査データと組み合わせて設計データを使用するための方法	2018年 4月18日
特許 6312664	近接場計測	2018年 4月18日
特許 6312665	電気誘起ガス流によるレーザー維持プラズマ光源	2018年 4月18日
特許 6312682	ＥＵＶマスク検査システムの光学系の波面収差計測	2018年 4月18日
特許 6312822	可変電圧読出クロック信号を有するＴＤＩ撮像システム	2018年 4月18日
特許 6309078	低減されたデブリ生成を有するレーザ生成プラズマＥＵＶ源	2018年 4月11日
特許 6310920	高ビーム電流および低ビーム電流の両方を用いた、高解像度イメージングのための二重レンズ銃電子ビーム装置	2018年 4月11日
特許 6310929	表面検査における照明エネルギー管理	2018年 4月11日
特許 6305350	半導体デバイス検査システムにおけるアポダイゼーションのためのシステム	2018年 4月 4日
特許 6305396	超解像度検査システム	2018年 4月 4日

78 件中 46-60 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6322141 6316800 6316898 6312370 6312641 6312642 6312664 6312665 6312682 6312822 6309078 6310920 6310929 6305350 6305396

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ケーエルエー−テンカー　コーポレイションの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数