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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第363位 103件
(2017年:第422位 98件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第358位 78件
(2017年:第472位 54件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6322141 | 変調光源を備える光学計測ツール | 2018年 5月 9日 | |
特許 6316800 | 半導体検査ツールにおいてサンプルステージの運動を時間遅延積分電荷結合素子で同期させる装置および方法 | 2018年 4月25日 | |
特許 6316898 | プラズマチャンバのためのプロセス条件検知デバイス及び方法 | 2018年 4月25日 | |
特許 6312370 | ウェーハジオメトリ計測ツールによるウェーハ表面フィーチャの検出、分類および定量化のためのシステムおよび方法 | 2018年 4月18日 | |
特許 6312641 | 検査データと組み合わせて設計データを使用するための方法 | 2018年 4月18日 | |
特許 6312642 | 検査データと組み合わせて設計データを使用するための方法 | 2018年 4月18日 | |
特許 6312664 | 近接場計測 | 2018年 4月18日 | |
特許 6312665 | 電気誘起ガス流によるレーザー維持プラズマ光源 | 2018年 4月18日 | |
特許 6312682 | EUVマスク検査システムの光学系の波面収差計測 | 2018年 4月18日 | |
特許 6312822 | 可変電圧読出クロック信号を有するTDI撮像システム | 2018年 4月18日 | |
特許 6309078 | 低減されたデブリ生成を有するレーザ生成プラズマEUV源 | 2018年 4月11日 | |
特許 6310920 | 高ビーム電流および低ビーム電流の両方を用いた、高解像度イメージングのための二重レンズ銃電子ビーム装置 | 2018年 4月11日 | |
特許 6310929 | 表面検査における照明エネルギー管理 | 2018年 4月11日 | |
特許 6305350 | 半導体デバイス検査システムにおけるアポダイゼーションのためのシステム | 2018年 4月 4日 | |
特許 6305396 | 超解像度検査システム | 2018年 4月 4日 |
78 件中 46-60 件を表示
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6322141 6316800 6316898 6312370 6312641 6312642 6312664 6312665 6312682 6312822 6309078 6310920 6310929 6305350 6305396
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