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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第363位 103件
(
2017年:第422位 98件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第358位 78件
(
2017年:第472位 54件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6347820 | 欠陥に関係する用途のための三次元表現の使用 | 2018年 6月27日 | |
| 特許 6345125 | ウェハおよびレチクル検査システムならびに照明瞳配置を選択するための方法 | 2018年 6月20日 | |
| 特許 6342046 | ビット不良および仮想検査を用いたウェハ検査プロセスの生成 | 2018年 6月13日 | |
| 特許 6339067 | 直交下層ダミーフィルを有するオーバレイターゲット | 2018年 6月 6日 | |
| 特許 6333734 | レーザ維持プラズマ光源におけるVUVフィルタリングを提供するためのプラズマセル | 2018年 5月30日 | |
| 特許 6328055 | EBCCD、EBCCDを操作させる方法、暗視野検査システム、検査方法および検査システム | 2018年 5月23日 | |
| 特許 6328063 | 処理済像を使用するレチクル検査時の選択的感度のための細線の検出 | 2018年 5月23日 | |
| 特許 6328106 | 反射電子ビームリソグラフィのためのリニアステージ及び計測アーキテクチャ | 2018年 5月23日 | |
| 特許 6328225 | 光電子増倍管(PMT)、イメージセンサ、及びPMT又はイメージセンサを用いた検査システム | 2018年 5月23日 | |
| 特許 6329209 | 設計ベースデバイスリスク評価 | 2018年 5月23日 | |
| 特許 6324071 | EUV結像のための装置およびその装置を用いた方法 | 2018年 5月16日 | |
| 特許 6324398 | 不偏ウェハの欠陥サンプル | 2018年 5月16日 | |
| 特許 6324963 | 固体照射光源及び検査システム | 2018年 5月16日 | |
| 特許 6325518 | EUVレチクル検査ツールにおけるレチクルの取り扱い装置及び方法 | 2018年 5月16日 | |
| 特許 6320387 | 埋設SEM構造オーバーレイ標的を用いたOVLのためのデバイス相関計測法(DCM) | 2018年 5月 9日 |
78 件中 31-45 件を表示
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6347820 6345125 6342046 6339067 6333734 6328055 6328063 6328106 6328225 6329209 6324071 6324398 6324963 6325518 6320387
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10月31日(金) -
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10月29日(水) - 東京 港区
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11月6日(木) - 東京 港区
11月6日(木) - 大阪 大阪市
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11月7日(金) -
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