ホーム > 特許ランキング > ケーエルエー−テンカー コーポレイション > 2018年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(ケーエルエー−テンカー コーポレイション)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2018年 出願公開件数ランキング 第363位 103件
(2017年:第422位 98件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第358位 78件
(2017年:第472位 54件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6347820 | 欠陥に関係する用途のための三次元表現の使用 | 2018年 6月27日 | |
特許 6345125 | ウェハおよびレチクル検査システムならびに照明瞳配置を選択するための方法 | 2018年 6月20日 | |
特許 6342046 | ビット不良および仮想検査を用いたウェハ検査プロセスの生成 | 2018年 6月13日 | |
特許 6339067 | 直交下層ダミーフィルを有するオーバレイターゲット | 2018年 6月 6日 | |
特許 6333734 | レーザ維持プラズマ光源におけるVUVフィルタリングを提供するためのプラズマセル | 2018年 5月30日 | |
特許 6328055 | EBCCD、EBCCDを操作させる方法、暗視野検査システム、検査方法および検査システム | 2018年 5月23日 | |
特許 6328063 | 処理済像を使用するレチクル検査時の選択的感度のための細線の検出 | 2018年 5月23日 | |
特許 6328106 | 反射電子ビームリソグラフィのためのリニアステージ及び計測アーキテクチャ | 2018年 5月23日 | |
特許 6328225 | 光電子増倍管(PMT)、イメージセンサ、及びPMT又はイメージセンサを用いた検査システム | 2018年 5月23日 | |
特許 6329209 | 設計ベースデバイスリスク評価 | 2018年 5月23日 | |
特許 6324071 | EUV結像のための装置およびその装置を用いた方法 | 2018年 5月16日 | |
特許 6324398 | 不偏ウェハの欠陥サンプル | 2018年 5月16日 | |
特許 6324963 | 固体照射光源及び検査システム | 2018年 5月16日 | |
特許 6325518 | EUVレチクル検査ツールにおけるレチクルの取り扱い装置及び方法 | 2018年 5月16日 | |
特許 6320387 | 埋設SEM構造オーバーレイ標的を用いたOVLのためのデバイス相関計測法(DCM) | 2018年 5月 9日 |
78 件中 31-45 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6347820 6345125 6342046 6339067 6333734 6328055 6328063 6328106 6328225 6329209 6324071 6324398 6324963 6325518 6320387
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ケーエルエー−テンカー コーポレイションの知財の動向チェックに便利です。
9月1日(月) - 千葉 千葉市美浜区中瀬1丁目3番地
9月1日(月) - 東京 港区
特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
9月1日(月) -
9月2日(火) -
9月2日(火) -
9月2日(火) - 東京 港区
9月3日(水) -
9月3日(水) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月4日(木) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月5日(金) -
9月5日(金) -
9月6日(土) -
9月1日(月) - 千葉 千葉市美浜区中瀬1丁目3番地
9月10日(水) - 東京 港区
9月10日(水) -
9月11日(木) - 東京 江東区
9月11日(木) - 広島 広島
ますます頼りにされる商標担当者になるための3つのポイント ~ 社内の商標相談にサクサクと答えられるエッセンスを教えます ~
9月12日(金) -
9月12日(金) -
〒166-0003 東京都杉並区高円寺南2-50-2 YSビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
神奈川県横浜市港北区日吉本町1-4-5パレスMR201号 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒140-0002 東京都品川区東品川2丁目2番24号 天王洲セントラルタワー21F・22F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング