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ケーエルエー−テンカー コーポレイション
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第296位 118件
（
2021年：第424位 82件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第335位 90件
（
2021年：第239位 120件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ケーエルエー−テンカー コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7118152 | デバイスに関連付けられたオーバーレイの計測のためのシステムおよび方法 | 2022年 8月15日 | |
| 特許 7117242 | ホットスポット及び処理窓監視 | 2022年 8月12日 | |
| 特許 7116757 | ウエハレベル欠陥の転写性を予測する装置および方法 | 2022年 8月10日 | |
| 特許 7116106 | 多重モードを備えた検査システム及び方法 | 2022年 8月 9日 | |
| 特許 7116154 | 高解像度の電子ビーム装置 | 2022年 8月 9日 | |
| 特許 7114630 | 基板及び膜厚分布計測システム及び方法 | 2022年 8月 8日 | |
| 特許 7113829 | 光近接場計測 | 2022年 8月 5日 | |
| 特許 7113078 | 視野サイズ削減による不要漏洩光低減 | 2022年 8月 4日 | |
| 特許 7111826 | 走査電子ビーム信号の対称性に基づく重複標的構造のオーバーレイ測定 | 2022年 8月 2日 | |
| 特許 7105904 | 製造データに基づく半導体デバイスのターゲットされたリコール | 2022年 7月25日 | |
| 特許 7101786 | 回折に基づく重ね合わせ散乱計測 | 2022年 7月15日 | |
| 特許 7097971 | 計量ターゲット情報コンテンツの増強 | 2022年 7月 8日 | |
| 特許 7097447 | 電子顕微鏡を使用した半導体計測および欠陥分類 | 2022年 7月 7日 | |
| 特許 7097466 | プロセス誘起逸脱特性評価 | 2022年 7月 7日 | |
| 特許 7096850 | レーザパルス繰返し周波数逓倍器 | 2022年 7月 6日 |
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7118152 7117242 7116757 7116106 7116154 7114630 7113829 7113078 7111826 7105904 7101786 7097971 7097447 7097466 7096850
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