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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第272位 151件
（
2018年：第314位 124件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第255位 108件
（2018年：第281位 102件）
（ランキング更新日：2025年4月11日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6496017 | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2019年 4月 3日 | |
| 特許 6496077 | 位置測定システム、干渉計、及びリソグラフィ装置 | 2019年 4月 3日 | |
| 特許 6491677 | 計算的ウェーハ検査 | 2019年 3月27日 | |
| 特許 6487519 | リソグラフィ装置用の汚染トラップ | 2019年 3月20日 | |
| 特許 6484704 | センサ、オブジェクト位置決めシステム、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | 2019年 3月13日 | |
| 特許 6480339 | 放射源およびリソグラフィのための方法 | 2019年 3月 6日 | |
| 特許 6475260 | 物体を洗浄するための装置 | 2019年 2月27日 | |
| 特許 6473157 | ペリクルを製造するための装置および方法ならびにペリクル | 2019年 2月20日 | |
| 特許 6467506 | 液浸リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2019年 2月13日 | |
| 特許 6468993 | モデルベースのプロセスシミュレーション方法 | 2019年 2月13日 | |
| 特許 6469577 | 極紫外光源のためのターゲット材料供給装置 | 2019年 2月13日 | |
| 特許 6469761 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2019年 2月13日 | |
| 特許 6470856 | 露光装置 | 2019年 2月13日 | |
| 特許 6471142 | 極端紫外光を生成する方法 | 2019年 2月13日 | |
| 特許 6465900 | 流体ハンドリング構造、液浸リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | 2019年 2月 6日 |
113 件中 91-105 件を表示
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6496017 6496077 6491677 6487519 6484704 6480339 6475260 6473157 6467506 6468993 6469577 6469761 6470856 6471142 6465900
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