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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6559685 | 極紫外光源 | 2019年 8月14日 | |
特許 6560787 | 検査方法、リソグラフィ装置、マスクおよび基板 | 2019年 8月14日 | |
特許 6560828 | 基板上の感光性材料を除去するための方法 | 2019年 8月14日 | |
特許 6561039 | ターゲット材料の供給および回収のための方法ならびに装置 | 2019年 8月14日 | |
特許 6555703 | リソグラフィ装置のための制御システムおよび方法 | 2019年 8月 7日 | |
特許 6556195 | リソグラフィ装置および方法 | 2019年 8月 7日 | |
特許 6556869 | 支持装置、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | 2019年 8月 7日 | |
特許 6556929 | 露光装置 | 2019年 8月 7日 | |
特許 6557394 | 露光装置 | 2019年 8月 7日 | |
特許 6557403 | リソグラフィ装置及び方法 | 2019年 8月 7日 | |
特許 6557716 | レーザ生成プラズマEUV光源 | 2019年 8月 7日 | |
特許 6550623 | リソグラフィ機のクラスタのためのネットワークアーキテクチャおよびプロトコル | 2019年 7月31日 | |
特許 6552649 | 可動サポート及びリソグラフィ装置 | 2019年 7月31日 | |
特許 6553295 | 近接センサ、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 | 2019年 7月31日 | |
特許 6553817 | 位置センシング機構、そのような機構を含むリソグラフィ装置、位置センシング方法、及びデバイス製造方法 | 2019年 7月31日 |
113 件中 46-60 件を表示
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6559685 6560787 6560828 6561039 6555703 6556195 6556869 6556929 6557394 6557403 6557716 6550623 6552649 6553295 6553817
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2月20日(木) -
2月20日(木) -
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パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
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(オンライン参加可)体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする?~海外で商標権がバッティング?オープンファクトリーの知財リスク?~
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