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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6554445 | 支持装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2019年 7月31日 | |
特許 6549123 | 放射源装置およびリソグラフィ装置 | 2019年 7月24日 | |
特許 6549242 | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2019年 7月24日 | |
特許 6549317 | 基板テーブル及びリソグラフィ装置 | 2019年 7月24日 | |
特許 6550478 | マルチビーム装置、荷電粒子ビーム装置、ソース変換ユニット、ソース変換ユニットを構成する方法、仮想的マルチソースアレイを形成するための方法 | 2019年 7月24日 | |
特許 6543761 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2019年 7月10日 | |
特許 6537194 | リソグラフィ装置及びリソグラフィ装置を用いてデバイスを製造する方法 | 2019年 7月 3日 | |
特許 6537704 | リソグラフィ装置を制御するための方法、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2019年 7月 3日 | |
特許 6534750 | 位置測定システム及びリソグラフィ装置 | 2019年 6月26日 | |
特許 6535103 | リソグラフィ装置及びリソグラフィ投影方法 | 2019年 6月26日 | |
特許 6533004 | 測定システム、リソグラフィ装置、デバイス製造方法、および測定方法 | 2019年 6月19日 | |
特許 6524256 | メトロロジ方法及び装置、コンピュータプログラム、並びにリソグラフィシステム | 2019年 6月 5日 | |
特許 6526575 | リソグラフィ装置及び方法 | 2019年 6月 5日 | |
特許 6526734 | インプリントリソグラフィ | 2019年 6月 5日 | |
特許 6527154 | ブリスタ耐性のある多層キャップを有するEUV光学素子 | 2019年 6月 5日 |
113 件中 61-75 件を表示
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6554445 6549123 6549242 6549317 6550478 6543761 6537194 6537704 6534750 6535103 6533004 6524256 6526575 6526734 6527154
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12月1日(日) -
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