ホーム > 特許ランキング > エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． > 2019年 > 特許一覧
エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
※ ログインすれば出願人(エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2019年 出願公開件数ランキング 第272位 151件
（
2018年：第314位 124件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第255位 108件
（2018年：第281位 102件）
（ランキング更新日：2025年4月11日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6577086 | メトロロジ方法および装置、リソグラフィシステムならびにデバイス製造方法 | 2019年 9月18日 | |
| 特許 6578436 | トポグラフィ測定システム | 2019年 9月18日 | |
| 特許 6572378 | リソグラフィ装置におけるパターニングデバイス冷却システム | 2019年 9月11日 | |
| 特許 6573706 | リソグラフィ装置及び方法 | 2019年 9月11日 | |
| 特許 6574086 | レーザ作動光源 | 2019年 9月11日 | |
| 特許 6571092 | ビームデリバリ装置及び方法 | 2019年 9月 4日 | |
| 特許 6571233 | リソグラフィ方法および装置 | 2019年 9月 4日 | |
| 特許 6571802 | リソグラフィ装置、制御方法、及びコンピュータプログラム製品 | 2019年 9月 4日 | |
| 特許 6567095 | 計測方法、検査装置、リソグラフィシステムおよびデバイス製造方法 | 2019年 8月28日 | |
| 特許 6567523 | メトロロジーターゲットの設計のための方法及び装置 | 2019年 8月28日 | |
| 特許 6568298 | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2019年 8月28日 | |
| 特許 6562929 | リソグラフィシステム | 2019年 8月21日 | |
| 特許 6563563 | レーザ生成プラズマ極端紫外線光源のターゲット | 2019年 8月21日 | |
| 特許 6563600 | 振動絶縁デバイス、リソグラフィ装置、および振動絶縁システムを調節する方法 | 2019年 8月21日 | |
| 特許 6563604 | パターニングデバイス冷却装置 | 2019年 8月21日 |
113 件中 31-45 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6577086 6578436 6572378 6573706 6574086 6571092 6571233 6571802 6567095 6567523 6568298 6562929 6563563 6563600 6563604
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
4月14日(月) -
4月14日(月) -
4月14日(月) -
4月15日(火) -
4月15日(火) - 大阪 大阪市
4月15日(火) -
4月16日(水) - 東京 大田
4月16日(水) -
4月16日(水) -
4月16日(水) -
4月16日(水) -
4月17日(木) - 東京 大田
4月17日(木) -
4月17日(木) -
4月18日(金) -
4月18日(金) -
4月18日(金) - 北海道 千代田区
4月14日(月) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
〒541-0046 大阪市中央区平野町２丁目２番９号 ビル皿井２階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
愛知県日進市岩崎町野田３－１８ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒104-0061 東京都中央区銀座1-8-2 銀座プルミエビル8階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
