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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第272位 151件
（
2018年：第314位 124件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第255位 108件
（2018年：第281位 102件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6577086 | メトロロジ方法および装置、リソグラフィシステムならびにデバイス製造方法 | 2019年 9月18日 | |
| 特許 6578436 | トポグラフィ測定システム | 2019年 9月18日 | |
| 特許 6572378 | リソグラフィ装置におけるパターニングデバイス冷却システム | 2019年 9月11日 | |
| 特許 6573706 | リソグラフィ装置及び方法 | 2019年 9月11日 | |
| 特許 6574086 | レーザ作動光源 | 2019年 9月11日 | |
| 特許 6571092 | ビームデリバリ装置及び方法 | 2019年 9月 4日 | |
| 特許 6571233 | リソグラフィ方法および装置 | 2019年 9月 4日 | |
| 特許 6571802 | リソグラフィ装置、制御方法、及びコンピュータプログラム製品 | 2019年 9月 4日 | |
| 特許 6567095 | 計測方法、検査装置、リソグラフィシステムおよびデバイス製造方法 | 2019年 8月28日 | |
| 特許 6567523 | メトロロジーターゲットの設計のための方法及び装置 | 2019年 8月28日 | |
| 特許 6568298 | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2019年 8月28日 | |
| 特許 6562929 | リソグラフィシステム | 2019年 8月21日 | |
| 特許 6563563 | レーザ生成プラズマ極端紫外線光源のターゲット | 2019年 8月21日 | |
| 特許 6563600 | 振動絶縁デバイス、リソグラフィ装置、および振動絶縁システムを調節する方法 | 2019年 8月21日 | |
| 特許 6563604 | パターニングデバイス冷却装置 | 2019年 8月21日 |
113 件中 31-45 件を表示
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6577086 6578436 6572378 6573706 6574086 6571092 6571233 6571802 6567095 6567523 6568298 6562929 6563563 6563600 6563604
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