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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第339位 109件
(2020年:第286位 138件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第239位 120件
(2020年:第237位 122件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6959989 | 荷電粒子の複数のビームを使用した装置 | 2021年11月 5日 | |
特許 6957692 | リソグラフィ装置 | 2021年11月 2日 | |
特許 6957728 | アライメント測定システム | 2021年11月 2日 | |
特許 6959339 | 検査装置および基板上のターゲット構造を測定する方法 | 2021年11月 2日 | |
特許 6952844 | 極端紫外光源におけるターゲット膨張率制御 | 2021年10月27日 | |
特許 6955117 | 振動絶縁システムおよびリソグラフィ装置 | 2021年10月27日 | |
特許 6951415 | 基板保持デバイス、そのようなデバイスを製造するための方法、ならびに、サンプルを処理または像形成するための装置および方法 | 2021年10月20日 | |
特許 6951495 | メトロロジー方法、ターゲット、及び基板 | 2021年10月20日 | |
特許 6952136 | リソグラフィの方法及び装置 | 2021年10月20日 | |
特許 6952606 | 冷却装置及びその使用方法並びにリソグラフィ装置 | 2021年10月20日 | |
特許 6949908 | レーザ作動光源 | 2021年10月13日 | |
特許 6949961 | フィードスルーデバイス及び信号導体経路構成 | 2021年10月13日 | |
特許 6950078 | オーバーレイを推定するための方法 | 2021年10月13日 | |
特許 6944010 | 極端紫外線光源用のターゲット | 2021年10月 6日 | |
特許 6944565 | RFプラズマ電界を使用したEUV光学部品のアクティブ洗浄装置および方法 | 2021年10月 6日 |
123 件中 16-30 件を表示
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6959989 6957692 6957728 6959339 6952844 6955117 6951415 6951495 6952136 6952606 6949908 6949961 6950078 6944010 6944565
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