特許ランキング - 出願人詳細情報 -

トーキョー　エレクトロン　ユーエス　ホールディングス，インコーポレーテッド

※ ログインすれば出願人(トーキョー　エレクトロン　ユーエス　ホールディングス，インコーポレーテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2022年出願公開件数ランキング　　　第37581位　0件（2021年：第34147位　0件）

　■　2022年特許取得件数ランキング　　　第27906位　0件（2021年：第25492位　0件）

（ランキング更新日：2025年2月5日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2023年 2024年 2025年

トーキョー　エレクトロン　ユーエス　ホールディングス，インコーポレーテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2022-525197	機械学習を用いた半導体製造データ取得機器における拡張された分解能	2022年 5月11日
特表 2022-521207	後面電力供給における交換用埋設電力レール	2022年 4月 6日
特表 2022-515349	照射されたエッチング溶液を使用した材料の粗さ低減方法	2022年 2月18日
特表 2022-515350	照射されたエッチング溶液を使用して材料の粗さを低減するための処理システム及びプラットフォーム	2022年 2月18日
特開 2022-27701	選択的原子層エッチング（ＡＬＥ）を用いた平面化を改善するシステムおよび方法	2022年 2月14日
特開 2022-27791	光増感化学増幅レジスト（ＰＳ－ＣＡＲ）シミュレーション	2022年 2月14日
特表 2022-513010	ウェハ上の欠陥、金属粒子汚染及び膜成長を抑制するシステム及び方法	2022年 2月 7日
特表 2022-509506	半導体素子のモノリシック３Ｄ集積を行うためのアーキテクチャ	2022年 1月20日
特表 2022-509511	マイクロ電子デバイスを製造するためのシステム及び方法	2022年 1月20日
特表 2022-507256	有機膜の平面化法	2022年 1月18日
特表 2022-507257	コンフォーマル膜の交互積層成長のための方法	2022年 1月18日
特表 2022-507400	自己律速型で有限溶解度の反応を使用した湿式原子層エッチングのための処理システム及びプラットフォーム	2022年 1月18日
特表 2022-507521	自己律速型で有限溶解度の反応を使用した湿式原子層エッチング	2022年 1月18日
特開 2022-8223	処理ツール用シャワーヘッド	2022年 1月13日
特表 2022-504574	半導体デバイス内の凹状特徴部を低抵抗率金属で充填する方法	2022年 1月13日

47 件中 31-45 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2022-525197 2022-521207 2022-515349 2022-515350 2022-27701 2022-27791 2022-513010 2022-509506 2022-509511 2022-507256 2022-507257 2022-507400 2022-507521 2022-8223 2022-504574

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。トーキョー　エレクトロン　ユーエス　ホールディングス，インコーポレーテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数