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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第182位 243件
（
2015年：第107位 423件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第89位 360件
（
2015年：第95位 287件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5887412 | 液体クロマトグラフ装置及び送液装置 | 2016年 3月16日 | |
| 特許 5883631 | フローセル及び液体分析装置 | 2016年 3月15日 | |
| 特許 5883658 | 荷電粒子線顕微鏡、荷電粒子線顕微鏡用試料ホルダ及び荷電粒子線顕微方法 | 2016年 3月15日 | |
| 特許 5883769 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2016年 3月15日 | |
| 特許 5883772 | プラズマ処理方法 | 2016年 3月15日 | |
| 特許 5881377 | 試料位置決め装置、試料ステージ、荷電粒子線装置 | 2016年 3月 9日 | |
| 特許 5882072 | 欠陥観察方法及びその装置 | 2016年 3月 9日 | |
| 特許 5879085 | 液面状態検出装置、自動分析装置および液面状態検出方法 | 2016年 3月 8日 | |
| 特許 5879280 | 液体クロマトグラフ用送液装置および液体クロマトグラフ装置 | 2016年 3月 8日 | |
| 特許 5879419 | オーバーレイ計測装置 | 2016年 3月 8日 | |
| 特許 5879449 | プラズマ処理装置 | 2016年 3月 8日 | |
| 特許 5875500 | 電子ビーム顕微装置 | 2016年 3月 2日 | |
| 特許 5875723 | プラズマ処理方法 | 2016年 3月 2日 | |
| 特許 5875875 | 自動分析装置 | 2016年 3月 2日 | |
| 特許 5876992 | プラズマ処理装置 | 2016年 3月 2日 |
362 件中 301-315 件を表示
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5887412 5883631 5883658 5883769 5883772 5881377 5882072 5879085 5879280 5879419 5879449 5875500 5875723 5875875 5876992
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