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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第273位 126件
（
2023年：第263位 136件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第83位 368件
（
2023年：第87位 361件）
（ランキング更新日：2025年2月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2024-36088 | プラズマ処理装置 | 2024年 3月15日 | |
| 特開 2024-32714 | 自動分析装置 | 2024年 3月12日 | |
| 特開 2024-29800 | イオンガイド、およびそれを備える質量分析装置 | 2024年 3月 7日 | |
| 特開 2024-30088 | 自動分析装置 | 2024年 3月 7日 | |
| 特開 2024-29593 | 電池管理装置、電池管理方法 | 2024年 3月 6日 | |
| 特開 2024-28983 | 装置診断装置、半導体製造装置システム、半導体装置製造システムおよび装置診断方法 | 2024年 3月 5日 | |
| 特開 2024-29150 | 自動分析装置 | 2024年 3月 5日 | |
| 特開 2024-26256 | 画像を生成するシステム、及び非一時的コンピュータ可読媒体 | 2024年 2月28日 | |
| 特開 2024-24862 | 細胞分析用樹脂プレート | 2024年 2月26日 | |
| 特開 2024-25442 | オブジェクト分類装置、オブジェクト分類方法及びオブジェクト分類システム | 2024年 2月26日 | |
| 特開 2024-24237 | 自動分析装置および洗浄液量の調整方法 | 2024年 2月22日 | |
| 特表 2024-507956 | 試料優先度を管理する方法およびシステム | 2024年 2月21日 | |
| 特開 2024-17093 | プラズマ処理装置 | 2024年 2月 8日 | |
| 特開 2024-18576 | 距離計測装置、及び距離計測方法 | 2024年 2月 8日 | |
| 特表 2024-506084 | 検査室データ管理システム | 2024年 2月 8日 |
132 件中 106-120 件を表示
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2024-36088 2024-32714 2024-29800 2024-30088 2024-29593 2024-28983 2024-29150 2024-26256 2024-24862 2024-25442 2024-24237 2024-507956 2024-17093 2024-18576 2024-506084
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2月14日(金) - 東京 千代田区
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