株式会社ＳＵＭＣＯ
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第737位 41件
（
2013年：第585位 64件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第212位 189件
（
2013年：第276位 144件）
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株式会社ＳＵＭＣＯの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5471070 | 単結晶インゴットの円筒研削方法 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5473878 | シリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボの製造方法 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5472308 | エピタキシャルウェーハの製造方法および製造装置 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5470769 | シリコンウェーハの熱処理方法 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5471780 | ボロンドープｐ型シリコン中の鉄濃度測定方法およびボロンドープｐ型シリコンウェーハの製造方法 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5470839 | 貼り合わせシリコンウェーハの製造方法 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5470766 | 半導体デバイスの製造方法 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5467418 | 造粒シリカ粉の製造方法、シリカガラスルツボの製造方法 | 2014年 4月 9日 | |
| 特許 5464068 | エピタキシャル成長装置における内部部材の位置調整方法 | 2014年 4月 9日 | |
| 特許 5463943 | 画像データ処理方法および画像作成方法 | 2014年 4月 9日 | |
| 特許 5459804 | シリコン単結晶引き上げ用シリカガラスルツボの製造方法 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5458857 | 洗浄方法 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5458683 | レーザー散乱法を用いた半導体ウェーハの良品判定方法 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5458599 | エピタキシャルシリコンウェーハ、およびその製造方法 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5458525 | ＳＯＩウェーハの製造方法 | 2014年 4月 2日 |
189 件中 106-120 件を表示
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5471070 5473878 5472308 5470769 5471780 5470839 5470766 5467418 5464068 5463943 5459804 5458857 5458683 5458599 5458525
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特許ランキング
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2月19日(水) - 東京 港区
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（オンライン参加可）体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする？～海外で商標権がバッティング？オープンファクトリーの知財リスク？～
2月25日(火) -
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