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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第383位 96件
（
2013年：第430位 93件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第284位 137件
（2013年：第457位 78件）
（ランキング更新日：2025年2月18日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5539925 | 光学構成体用の装置及び光学構成体の光学素子を位置決めする方法 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5540030 | 光学アセンブリ | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5534540 | マイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明光学系 | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5529922 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システム | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5527970 | 投影対物系の結像特性を改良する方法 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5530525 | 光学システムの、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学構成体 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5525550 | マイクロリソグラフィ用の照明光学系及び光学系 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5526152 | アクチュエータシステムを備える投影露光装置 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5522520 | 光学レンズ系 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5525608 | マイクロリソグラフィ投影露光装置においてマスクを照明するための照明系 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5524067 | 光学素子の温度制御装置 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5519664 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5521029 | 複屈折を測定する測定法及び測定システム | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5514175 | 物体の結合方法および複合体 | 2014年 6月 4日 | |
| 特許 5508577 | 第１および第２付加中間層を備えるＥＵＶリソグラフィ装置用多層反射光学素子 | 2014年 6月 4日 |
137 件中 61-75 件を表示
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5539925 5540030 5534540 5529922 5527970 5530525 5525550 5526152 5522520 5525608 5524067 5519664 5521029 5514175 5508577
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