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東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5988438 | 塗布処理方法及び塗布処理装置 | 2016年 9月 7日 | |
| 特許 5989525 | 基板処理装置、基板処理装置の基板保持状態の把握方法および記憶媒体 | 2016年 9月 7日 | |
| 特許 5984424 | 基板洗浄方法、基板洗浄装置及び真空処理装置 | 2016年 9月 6日 | |
| 特許 5985156 | 半導体基板の超臨界乾燥方法及び装置 | 2016年 9月 6日 | |
| 特許 5985316 | プラズマエッチング装置 | 2016年 9月 6日 | |
| 特許 5985943 | 液処理方法、液処理装置及び液処理用記録媒体 | 2016年 9月 6日 | |
| 特許 5986066 | シリコン及びシリコン含有膜の原子層堆積 | 2016年 9月 6日 | |
| 特許 5986811 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2016年 9月 6日 | |
| 特許 5986900 | 基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2016年 9月 6日 | |
| 特許 5980704 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2016年 8月31日 | |
| 特許 5981106 | プラズマエッチング方法 | 2016年 8月31日 | |
| 特許 5981307 | 処理方法及び処理装置 | 2016年 8月31日 | |
| 特許 5981358 | 伝熱シート貼付方法 | 2016年 8月31日 | |
| 特許 5982129 | 電極及びプラズマ処理装置 | 2016年 8月31日 | |
| 特許 5982206 | 下部電極、及びプラズマ処理装置 | 2016年 8月31日 |
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5988438 5989525 5984424 5985156 5985316 5985943 5986066 5986811 5986900 5980704 5981106 5981307 5981358 5982129 5982206
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