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東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5965680 | 処理室内部品の冷却方法、処理室内部品冷却プログラム、及び記憶媒体 | 2016年 8月10日 | |
| 特許 5965729 | ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法および基板処理装置 | 2016年 8月10日 | |
| 特許 5966618 | 成膜方法 | 2016年 8月10日 | |
| 特許 5966649 | 熱処理装置 | 2016年 8月10日 | |
| 特許 5967045 | 処理液供給装置及び処理液供給方法 | 2016年 8月10日 | |
| 特許 5968130 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2016年 8月10日 | |
| 特許 5968225 | 切り換え可能な中性ビーム源 | 2016年 8月10日 | |
| 特許 5968657 | めっき処理方法、めっき処理システムおよび記憶媒体 | 2016年 8月10日 | |
| 特許 5963784 | 液処理装置、液処理方法及び液処理用記憶媒体 | 2016年 8月 3日 | |
| 特許 5963785 | 液処理装置、液処理方法及び液処理用記憶媒体 | 2016年 8月 3日 | |
| 特許 5964372 | 液処理装置および液処理方法 | 2016年 8月 3日 | |
| 特許 5964635 | 操作制限装置、操作制限方法及びコンピュータプログラム | 2016年 8月 3日 | |
| 特許 5959806 | 基板処理方法、この基板処理方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体、および基板処理装置 | 2016年 8月 2日 | |
| 特許 5959914 | 基板処理システム、基板搬送方法および記憶媒体 | 2016年 8月 2日 | |
| 特許 5959991 | タングステン膜の成膜方法 | 2016年 8月 2日 |
572 件中 271-285 件を表示
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5965680 5965729 5966618 5966649 5967045 5968130 5968225 5968657 5963784 5963785 5964372 5964635 5959806 5959914 5959991
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