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東京エレクトロン株式会社

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  2016年 出願公開件数ランキング    第61位 616件 下降2015年:第56位 677件)

  2016年 特許取得件数ランキング    第49位 561件 上昇2015年:第51位 433件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6023017 基板熱処理装置、基板熱処理方法及び基板熱処理用記録媒体 2016年11月 9日
特許 6023038 フィルタ処理方法、フィルタ処理システム、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 2016年11月 9日
特許 6023787 イオンエネルギーアナライザ、イオンエネルギーアナライザを有する診断用ウエハ 2016年11月 9日
特許 6017396 薄膜形成方法および薄膜形成装置 2016年11月 2日
特許 6017600 複数の膜を有するスペーサを形成するエッチング方法 2016年11月 2日
特許 6017922 基板乾燥方法、液処理システムおよび記憶媒体 2016年11月 2日
特許 6017928 プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置 2016年11月 2日
特許 6017936 プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 2016年11月 2日
特許 6018606 温度制御可能なステージを含むシステム、半導体製造装置及びステージの温度制御方法 2016年11月 2日
特許 6018757 基板処理装置 2016年11月 2日
特許 6018821 クリーンルームの監視装置及びクリーンルームの監視方法 2016年11月 2日
特許 6019043 光学計測及びセンサ装置を用いるエッチングプロセス制御 2016年11月 2日
特許 6019127 スパイクアニールプロセスを制御する方法及びシステム 2016年11月 2日
特許 6019792 熱処理装置 2016年11月 2日
特許 6020227 ガス供給系及び成膜装置 2016年11月 2日

572 件中 106-120 件を表示

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6023017 6023038 6023787 6017396 6017600 6017922 6017928 6017936 6018606 6018757 6018821 6019043 6019127 6019792 6020227

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