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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
(2015年:第56位 677件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
(2015年:第51位 433件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6023017 | 基板熱処理装置、基板熱処理方法及び基板熱処理用記録媒体 | 2016年11月 9日 | |
特許 6023038 | フィルタ処理方法、フィルタ処理システム、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2016年11月 9日 | |
特許 6023787 | イオンエネルギーアナライザ、イオンエネルギーアナライザを有する診断用ウエハ | 2016年11月 9日 | |
特許 6017396 | 薄膜形成方法および薄膜形成装置 | 2016年11月 2日 | |
特許 6017600 | 複数の膜を有するスペーサを形成するエッチング方法 | 2016年11月 2日 | |
特許 6017922 | 基板乾燥方法、液処理システムおよび記憶媒体 | 2016年11月 2日 | |
特許 6017928 | プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置 | 2016年11月 2日 | |
特許 6017936 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2016年11月 2日 | |
特許 6018606 | 温度制御可能なステージを含むシステム、半導体製造装置及びステージの温度制御方法 | 2016年11月 2日 | |
特許 6018757 | 基板処理装置 | 2016年11月 2日 | |
特許 6018821 | クリーンルームの監視装置及びクリーンルームの監視方法 | 2016年11月 2日 | |
特許 6019043 | 光学計測及びセンサ装置を用いるエッチングプロセス制御 | 2016年11月 2日 | |
特許 6019127 | スパイクアニールプロセスを制御する方法及びシステム | 2016年11月 2日 | |
特許 6019792 | 熱処理装置 | 2016年11月 2日 | |
特許 6020227 | ガス供給系及び成膜装置 | 2016年11月 2日 |
572 件中 106-120 件を表示
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6023017 6023038 6023787 6017396 6017600 6017922 6017928 6017936 6018606 6018757 6018821 6019043 6019127 6019792 6020227
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