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東京エレクトロン株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第70位 558件
（
2016年：第63位 596件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第66位 431件
（2016年：第49位 561件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6246673 | 測定装置、基板処理システムおよび測定方法 | 2017年12月13日 | |
| 特許 6246558 | シリコン酸炭窒化物膜、シリコン酸炭化物膜、シリコン酸窒化物膜の成膜方法および成膜装置 | 2017年12月13日 | |
| 特許 6245399 | 基板処理装置 | 2017年12月13日 | |
| 特許 6244518 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2017年12月13日 | |
| 特許 6244188 | 接合装置、接合方法および接合システム | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6242283 | 成膜方法 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6242288 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6243290 | 成膜方法及び成膜装置 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6243722 | エッチング処理方法 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6244277 | 基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6244402 | 磁気抵抗素子の製造方法及び磁気抵抗素子の製造システム | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6244329 | 基板の検査方法、基板処理システム及びコンピュータ記憶媒体 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6244317 | 基板処理装置 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6244324 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6239339 | エッチング装置、エッチング方法、および基板載置機構 | 2017年11月29日 |
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6246673 6246558 6245399 6244518 6244188 6242283 6242288 6243290 6243722 6244277 6244402 6244329 6244317 6244324 6239339
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