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東京エレクトロン株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第83位 585件
（
2016年：第61位 616件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第66位 431件
（2016年：第49位 561件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6246749 | ウエットエッチング方法、基板液処理装置および記憶媒体 | 2017年12月13日 | |
| 特許 6247087 | 処理装置および活性種の生成方法 | 2017年12月13日 | |
| 特許 6247181 | シリコン又はゲルマニウム又はシリコンゲルマニウム膜の成膜方法および成膜装置 | 2017年12月13日 | |
| 特許 6247995 | 接合方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、接合装置及び接合システム | 2017年12月13日 | |
| 特許 6242283 | 成膜方法 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6242288 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6243290 | 成膜方法及び成膜装置 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6243722 | エッチング処理方法 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6244188 | 接合装置、接合方法および接合システム | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6244277 | 基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6244317 | 基板処理装置 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6244324 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6244329 | 基板の検査方法、基板処理システム及びコンピュータ記憶媒体 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6244402 | 磁気抵抗素子の製造方法及び磁気抵抗素子の製造システム | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6237264 | 縦型熱処理装置、熱処理方法及び記憶媒体 | 2017年11月29日 |
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6246749 6247087 6247181 6247995 6242283 6242288 6243290 6243722 6244188 6244277 6244317 6244324 6244329 6244402 6237264
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