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東京エレクトロン株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第83位 585件
（
2016年：第61位 616件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第66位 431件
（2016年：第49位 561件）
（ランキング更新日：2025年12月5日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6227440 | 凹部にコバルトを供給する方法 | 2017年11月 8日 | |
| 特許 6227976 | 基板処理装置及びシャッタ部材 | 2017年11月 8日 | |
| 特許 6228400 | 誘導結合プラズマ処理装置 | 2017年11月 8日 | |
| 特許 6228444 | 有機ＥＬ表示装置およびその製造方法 | 2017年11月 8日 | |
| 特許 6228508 | 洗浄装置、剥離システム、洗浄方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2017年11月 8日 | |
| 特許 6228694 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2017年11月 8日 | |
| 特許 6221932 | 成膜装置 | 2017年11月 1日 | |
| 特許 6221954 | 現像方法、現像装置及び記憶媒体 | 2017年11月 1日 | |
| 特許 6222064 | 継ぎ手 | 2017年11月 1日 | |
| 特許 6222118 | 処理液濾過装置、薬液供給装置及び処理液濾過方法並びに記憶媒体 | 2017年11月 1日 | |
| 特許 6223839 | 基板液処理方法、基板液処理装置および記憶媒体 | 2017年11月 1日 | |
| 特許 6223906 | 処理液交換方法および液処理装置 | 2017年11月 1日 | |
| 特許 6224366 | 支持部材及び基板処理装置 | 2017年11月 1日 | |
| 特許 6224428 | 載置台にフォーカスリングを吸着する方法 | 2017年11月 1日 | |
| 特許 6224437 | 基板搬送装置 | 2017年11月 1日 |
440 件中 61-75 件を表示
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6227440 6227976 6228400 6228444 6228508 6228694 6221932 6221954 6222064 6222118 6223839 6223906 6224366 6224428 6224437
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