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東京エレクトロン株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第83位 585件
（
2016年：第61位 616件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第66位 431件
（2016年：第49位 561件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6237511 | 薬液排出機構、液処理装置、薬液排出方法、記憶媒体 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6238930 | 空検出機能付きライナ式液体保存・分配システム | 2017年11月29日 | |
| 特許 6239339 | エッチング装置、エッチング方法、および基板載置機構 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6239365 | シリコン層をエッチングする方法 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6239466 | 半導体装置の製造方法 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6240532 | 静電チャックの温度制御方法 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6233707 | 光学式温度センサ及び光学式温度センサの製造方法 | 2017年11月22日 | |
| 特許 6234271 | 被処理体を処理する方法 | 2017年11月22日 | |
| 特許 6235294 | 基板搬送室及び容器接続機構 | 2017年11月22日 | |
| 特許 6235471 | シーズニング方法、プラズマ処理装置及び製造方法 | 2017年11月22日 | |
| 特許 6235974 | 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム | 2017年11月22日 | |
| 特許 6235981 | 被処理体を処理する方法 | 2017年11月22日 | |
| 特許 6236481 | パターン形成方法 | 2017年11月22日 | |
| 特許 6229618 | 熱処理装置、熱処理方法、及び記憶媒体 | 2017年11月15日 | |
| 特許 6230437 | 温度測定方法及びプラズマ処理システム | 2017年11月15日 |
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6237511 6238930 6239339 6239365 6239466 6240532 6233707 6234271 6235294 6235471 6235974 6235981 6236481 6229618 6230437
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