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東京エレクトロン株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第83位 585件
（
2016年：第61位 616件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第66位 431件
（2016年：第49位 561件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6220649 | 金属膜の成膜方法 | 2017年10月25日 | |
| 特許 6213487 | 縦型熱処理装置の運転方法、記憶媒体及び縦型熱処理装置 | 2017年10月18日 | |
| 特許 6215002 | フォーカスリングの製造方法及びプラズマ処理装置の製造方法 | 2017年10月18日 | |
| 特許 6215787 | 現像方法、現像装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2017年10月18日 | |
| 特許 6216289 | 基板処理装置、ノズル洗浄方法およびノズル洗浄装置 | 2017年10月18日 | |
| 特許 6216619 | プラズマ処理装置 | 2017年10月18日 | |
| 特許 6210935 | 研磨洗浄機構、基板処理装置及び基板処理方法 | 2017年10月11日 | |
| 特許 6211458 | 基板液処理装置及び基板液処理方法 | 2017年10月11日 | |
| 特許 6211478 | 触媒層形成方法、触媒層形成システムおよび記憶媒体 | 2017年10月11日 | |
| 特許 6211877 | 基板処理システム | 2017年10月11日 | |
| 特許 6211886 | 加熱処理方法及び加熱処理装置 | 2017年10月11日 | |
| 特許 6211893 | エッチング処理方法及び基板処理装置 | 2017年10月11日 | |
| 特許 6211938 | 基板熱処理装置、基板熱処理装置の設置方法 | 2017年10月11日 | |
| 特許 6211941 | 成膜方法および成膜装置 | 2017年10月11日 | |
| 特許 6211947 | 半導体装置の製造方法 | 2017年10月11日 |
440 件中 91-105 件を表示
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6220649 6213487 6215002 6215787 6216289 6216619 6210935 6211458 6211478 6211877 6211886 6211893 6211938 6211941 6211947
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