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東京エレクトロン株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第83位 585件
（
2016年：第61位 616件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第66位 431件
（2016年：第49位 561件）
（ランキング更新日：2025年2月14日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6230898 | エッチング方法 | 2017年11月15日 | |
| 特許 6230900 | 基板処理装置 | 2017年11月15日 | |
| 特許 6230930 | 半導体装置の製造方法 | 2017年11月15日 | |
| 特許 6230954 | エッチング方法 | 2017年11月15日 | |
| 特許 6230986 | プラズマ処理装置 | 2017年11月15日 | |
| 特許 6231370 | 消耗量測定装置、温度測定装置、消耗量測定方法、温度測定方法及び基板処理システム | 2017年11月15日 | |
| 特許 6231450 | 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム | 2017年11月15日 | |
| 特許 6231937 | 接合装置及び接合システム | 2017年11月15日 | |
| 特許 6231956 | 基板処理装置 | 2017年11月15日 | |
| 特許 6232041 | 成膜方法および成膜装置 | 2017年11月15日 | |
| 特許 6232219 | 多層保護膜の形成方法 | 2017年11月15日 | |
| 特許 6232277 | 有機ＥＬ素子構造、その製造方法及び発光パネル | 2017年11月15日 | |
| 特許 6225837 | 成膜装置、成膜方法、記憶媒体 | 2017年11月 8日 | |
| 特許 6225842 | 成膜装置、成膜方法、記憶媒体 | 2017年11月 8日 | |
| 特許 6226668 | プラズマ処理方法 | 2017年11月 8日 |
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6230898 6230900 6230930 6230954 6230986 6231370 6231450 6231937 6231956 6232041 6232219 6232277 6225837 6225842 6226668
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（オンライン参加可）体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする？～海外で商標権がバッティング？オープンファクトリーの知財リスク？～
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2月19日(水) - 東京 港区
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2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 －自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法－ ＜東京会場受講（対面）／Zoomオンライン受講 選択可＞ ＜見逃し視聴選択可＞
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月17日(月) - 大阪 大阪市
（オンライン参加可）体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする？～海外で商標権がバッティング？オープンファクトリーの知財リスク？～
2月25日(火) -
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2月26日(水) - 東京 港区
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2月27日(木) - 東京 港区
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2月27日(木) - 東京 千代田区
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