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東京エレクトロン株式会社
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第67位 588件
（
2017年：第83位 585件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第50位 503件
（2017年：第66位 431件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6438320 | プラズマ処理装置 | 2018年12月12日 | |
| 特許 6432458 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2018年12月 5日 | |
| 特許 6432507 | 成膜装置 | 2018年12月 5日 | |
| 特許 6432644 | 塗布膜形成装置、塗布膜形成方法、記憶媒体 | 2018年12月 5日 | |
| 特許 6434367 | 基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 | 2018年12月 5日 | |
| 特許 6434383 | 基板処理装置、連携処理システムおよび基板処理方法 | 2018年12月 5日 | |
| 特許 6435090 | プラズマ処理装置 | 2018年12月 5日 | |
| 特許 6428466 | 基板処理方法、基板処理装置、基板処理システム及び記憶媒体 | 2018年11月28日 | |
| 特許 6430156 | 基板処理システム、仕切弁及び基板搬送方法 | 2018年11月28日 | |
| 特許 6430233 | 伝熱シート及び基板処理装置 | 2018年11月28日 | |
| 特許 6430322 | 基板液処理装置、基板液処理方法および記憶媒体 | 2018年11月28日 | |
| 特許 6430784 | 基板液処理装置 | 2018年11月28日 | |
| 特許 6430870 | クランプ装置及びこれを用いた基板搬入出装置、並びに基板処理装置 | 2018年11月28日 | |
| 特許 6431472 | パターン形成方法 | 2018年11月28日 | |
| 特許 6431557 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2018年11月28日 |
507 件中 31-45 件を表示
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6438320 6432458 6432507 6432644 6434367 6434383 6435090 6428466 6430156 6430233 6430322 6430784 6430870 6431472 6431557
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