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東京エレクトロン株式会社

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  2018年 出願公開件数ランキング    第67位 588件 上昇2017年:第83位 585件)

  2018年 特許取得件数ランキング    第50位 503件 上昇2017年:第66位 431件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6431962 単層膜が媒介する高精度の膜堆積 2018年11月28日
特許 6425517 基板処理方法、基板処理装置および記憶媒体 2018年11月21日
特許 6425639 基板処理システム 2018年11月21日
特許 6425669 処理液供給方法、読み取り可能なコンピュータ記憶媒体及び処理液供給装置 2018年11月21日
特許 6425939 検査装置および検査方法 2018年11月21日
特許 6425970 検査装置および検査方法 2018年11月21日
特許 6426223 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 2018年11月21日
特許 6426489 エッチング方法 2018年11月21日
特許 6426893 コンタクト層の形成方法 2018年11月21日
特許 6426936 基板洗浄方法および記憶媒体 2018年11月21日
特許 6427218 微細凹状フィーチャのSiO2充填及び触媒表面上への選択的SiO2堆積のための方法 2018年11月21日
特許 6422262 プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 2018年11月14日
特許 6422541 基板処理システムのための渦状微粒化ノズルアセンブリ、気化器、及び関連する方法 2018年11月14日
特許 6423064 基板処理システム 2018年11月14日
特許 6423290 成膜装置 2018年11月14日

507 件中 46-60 件を表示

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6431962 6425517 6425639 6425669 6425939 6425970 6426223 6426489 6426893 6426936 6427218 6422262 6422541 6423064 6423290

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