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東京エレクトロン株式会社
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第67位 588件
（
2017年：第83位 585件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第50位 503件
（2017年：第66位 431件）
（ランキング更新日：2025年12月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6431962 | 単層膜が媒介する高精度の膜堆積 | 2018年11月28日 | |
| 特許 6425517 | 基板処理方法、基板処理装置および記憶媒体 | 2018年11月21日 | |
| 特許 6425639 | 基板処理システム | 2018年11月21日 | |
| 特許 6425669 | 処理液供給方法、読み取り可能なコンピュータ記憶媒体及び処理液供給装置 | 2018年11月21日 | |
| 特許 6425939 | 検査装置および検査方法 | 2018年11月21日 | |
| 特許 6425970 | 検査装置および検査方法 | 2018年11月21日 | |
| 特許 6426223 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2018年11月21日 | |
| 特許 6426489 | エッチング方法 | 2018年11月21日 | |
| 特許 6426893 | コンタクト層の形成方法 | 2018年11月21日 | |
| 特許 6426936 | 基板洗浄方法および記憶媒体 | 2018年11月21日 | |
| 特許 6427218 | 微細凹状フィーチャのＳｉＯ２充填及び触媒表面上への選択的ＳｉＯ２堆積のための方法 | 2018年11月21日 | |
| 特許 6422262 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2018年11月14日 | |
| 特許 6422541 | 基板処理システムのための渦状微粒化ノズルアセンブリ、気化器、及び関連する方法 | 2018年11月14日 | |
| 特許 6423064 | 基板処理システム | 2018年11月14日 | |
| 特許 6423290 | 成膜装置 | 2018年11月14日 |
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6431962 6425517 6425639 6425669 6425939 6425970 6426223 6426489 6426893 6426936 6427218 6422262 6422541 6423064 6423290
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