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東京エレクトロン株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第58位 660件
（
2018年：第67位 588件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第58位 415件
（
2018年：第50位 503件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6559107 | 成膜方法および成膜システム | 2019年 8月14日 | |
| 特許 6559430 | 被処理体を処理する方法 | 2019年 8月14日 | |
| 特許 6559602 | 基板処理装置および処理チャンバ洗浄方法 | 2019年 8月14日 | |
| 特許 6559813 | 基板処理装置及び基板処理装置の基板載置部の雰囲気制御方法 | 2019年 8月14日 | |
| 特許 6561093 | シリコン酸化膜を除去する方法 | 2019年 8月14日 | |
| 特許 6556046 | プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 | 2019年 8月 7日 | |
| 特許 6556074 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2019年 8月 7日 | |
| 特許 6552009 | 基板への周期的オルガノシリケートまたは自己組織化モノレイヤのスピンオンコーティングのためのシステムおよび方法 | 2019年 7月31日 | |
| 特許 6552206 | 排気管無害化方法及び成膜装置 | 2019年 7月31日 | |
| 特許 6552299 | 熱処理装置及び温度制御方法 | 2019年 7月31日 | |
| 特許 6552346 | 基板処理装置 | 2019年 7月31日 | |
| 特許 6552361 | センサ及び気化器 | 2019年 7月31日 | |
| 特許 6552404 | 基板処理方法、基板処理システム、基板処理装置、及び基板処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 | 2019年 7月31日 | |
| 特許 6552429 | プラズマ処理装置 | 2019年 7月31日 | |
| 特許 6552477 | エッチング方法 | 2019年 7月31日 |
418 件中 151-165 件を表示
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6559107 6559430 6559602 6559813 6561093 6556046 6556074 6552009 6552206 6552299 6552346 6552361 6552404 6552429 6552477
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