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東京エレクトロン株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第58位 660件
（
2018年：第67位 588件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第58位 415件
（
2018年：第50位 503件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6515003 | インターフェース装置、インターフェースユニット、プローブ装置及び接続方法 | 2019年 5月15日 | |
| 特許 6515007 | ウエハ検査方法及びウエハ検査装置 | 2019年 5月15日 | |
| 特許 6507953 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2019年 5月 8日 | |
| 特許 6509049 | マイクロ波プラズマ源およびプラズマ処理装置 | 2019年 5月 8日 | |
| 特許 6509095 | 窒化膜の形成方法 | 2019年 5月 8日 | |
| 特許 6509103 | 基板処理方法、基板処理装置、及び基板処理システム | 2019年 5月 8日 | |
| 特許 6509104 | 基板液処理装置 | 2019年 5月 8日 | |
| 特許 6509609 | 液滴体積測定装置、液滴体積測定方法、液滴体積測定用基板及びインクジェット描画装置 | 2019年 5月 8日 | |
| 特許 6503730 | 成膜装置 | 2019年 4月24日 | |
| 特許 6504017 | 基板処理装置 | 2019年 4月24日 | |
| 特許 6504770 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2019年 4月24日 | |
| 特許 6504827 | エッチング方法 | 2019年 4月24日 | |
| 特許 6504890 | 異物除去装置、異物除去方法および剥離装置 | 2019年 4月24日 | |
| 特許 6504974 | 磁化処理装置及び磁化処理方法 | 2019年 4月24日 | |
| 特許 6504989 | エッチング方法 | 2019年 4月24日 |
418 件中 271-285 件を表示
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6515003 6515007 6507953 6509049 6509095 6509103 6509104 6509609 6503730 6504017 6504770 6504827 6504890 6504974 6504989
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