特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2021年出願公開件数ランキング　　　第33位　878件（2020年：第43位　773件）

　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第45位　515件（2020年：第54位　436件）

（ランキング更新日：2025年2月13日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
再表 2020-26845	成膜装置	2021年 8月 5日
特開 2021-114360	アレーアンテナ及びプラズマ処理装置	2021年 8月 5日
特開 2021-114524	エアギャップ形成方法	2021年 8月 5日
特開 2021-114533	シリコン成膜方法	2021年 8月 5日
特開 2021-114546	基板を処理する装置、及び基板を処理する方法	2021年 8月 5日
特開 2021-114551	エッチング方法及びプラズマ処理装置	2021年 8月 5日
特開 2021-114569	基板処理方法および基板処理装置	2021年 8月 5日
特開 2021-114585	基板洗浄装置及び基板洗浄方法	2021年 8月 5日
特開 2021-114631	ウエハ検査システム	2021年 8月 5日
再表 2020-3995	加工装置	2021年 8月 2日
再表 2020-12951	加工装置、加工方法及びコンピュータ記憶媒体	2021年 8月 2日
再表 2020-17376	現像処理装置及び現像処理方法	2021年 8月 2日
再表 2020-17599	基板処理システム及び基板処理方法	2021年 8月 2日
再表 2020-22069	基板加熱装置及び基板加熱方法	2021年 8月 2日
再表 2020-22103	基板処理方法及び基板処理装置	2021年 8月 2日

882 件中 391-405 件を表示

... 27

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2020-26845 2021-114360 2021-114524 2021-114533 2021-114546 2021-114551 2021-114569 2021-114585 2021-114631 2020-3995 2020-12951 2020-17376 2020-17599 2020-22069 2020-22103

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数