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東京エレクトロン株式会社

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　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第45位　515件（2020年：第54位　436件）

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
再表 2020-22187	基板処理システム及び基板処理方法	2021年 8月 2日
再表 2020-26839	基板液処理装置および基板液処理方法	2021年 8月 2日
再表 2020-27152	基板を処理する方法、処理装置、および、処理システム	2021年 8月 2日
特表 2021-518575	較正されたトリム量を用いて限界寸法を補正するための方法	2021年 8月 2日
特表 2021-518658	レジストフィルムの厚さを調整するためのシステム及び方法	2021年 8月 2日
特表 2021-518664	形状メトロロジのための基板保持装置及び方法	2021年 8月 2日
特表 2021-518672	統合的な半導体処理モジュールを組み込んだ自己認識及び補正異種プラットフォーム及びその使用方法	2021年 8月 2日
特表 2021-518673	統合的な計測を伴う基板処理ツール並びに使用方法	2021年 8月 2日
特表 2021-518674	統合的な半導体処理モジュールを組み込んだ自己認識及び補正異種プラットフォーム及びその使用方法	2021年 8月 2日
特表 2021-518675	プラットフォーム、及び統合的エンドツーエンド自己整合マルチパターニングプロセスの操作方法	2021年 8月 2日
特開 2021-109995	成膜装置及び成膜方法	2021年 8月 2日
特開 2021-109997	ガス供給構造及び基板処理装置	2021年 8月 2日
特開 2021-110023	基板処理装置	2021年 8月 2日
特開 2021-110030	成膜方法、成膜装置、および半導体装置の製造方法	2021年 8月 2日
特開 2021-110646	載置台における異物の検出方法、及び、検出装置	2021年 8月 2日

882 件中 406-420 件を表示

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2020-22187 2020-26839 2020-27152 2021-518575 2021-518658 2021-518664 2021-518672 2021-518673 2021-518674 2021-518675 2021-109995 2021-109997 2021-110023 2021-110030 2021-110646

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