特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2021年出願公開件数ランキング　　　第33位　878件（2020年：第43位　773件）

　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第45位　515件（2020年：第54位　436件）

（ランキング更新日：2025年2月14日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2021-106217	膜形成方法及び膜形成装置	2021年 7月26日
特開 2021-106228	エッチング方法及びエッチング装置	2021年 7月26日
特開 2021-106279	基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体	2021年 7月26日
再表 2019-244696	基板の欠陥検査方法、記憶媒体及び基板の欠陥検査装置	2021年 7月15日
再表 2020-12986	基板処理システム及び基板処理方法	2021年 7月15日
特開 2021-103641	プラズマ発生源の検査方法及び負荷	2021年 7月15日
特開 2021-103659	プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法	2021年 7月15日
特開 2021-103698	基板処理システム	2021年 7月15日
特開 2021-103701	液処理装置、液処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2021年 7月15日
特開 2021-103710	基板処理方法及び基板処理装置	2021年 7月15日
特開 2021-103725	基板処理方法及び基板処理システム	2021年 7月15日
特開 2021-103727	基板処理方法および基板処理装置	2021年 7月15日
特開 2021-103790	基板処理装置及び基板処理方法	2021年 7月15日
再表 2019-239892	基板処理方法、改質装置及び基板処理システム	2021年 7月 8日
再表 2019-244700	プラズマ処理装置及びプラズマエッチング方法	2021年 7月 8日

882 件中 436-450 件を表示

... 30

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2021-106217 2021-106228 2021-106279 2019-244696 2020-12986 2021-103641 2021-103659 2021-103698 2021-103701 2021-103710 2021-103725 2021-103727 2021-103790 2019-239892 2019-244700

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数